|
液浸リソグラフィ技術の量産導入第1世代目は、まさに始まらんとするばかりだが、研究者たちはその次の世代に注目し始めている。次世代では露光装置の開口数（NA）が高くなり、液体には高屈折率の材料が採用される。
|
Advertisement
|
|
|
|
|
|
|
液浸リソグラフィ技術ではレンズ後玉とウェーハ間を空気より屈折率の高い液体で満たす。レーザー光を通しても転写されるパターンそのものの解像度は向上しないが、高NAのレンズを使用することが可能になり、高NA光学系により解像度を向上することができる。大気中のNAの上限は1.0未満であるが、脱イオン化された純水の屈折率は1.44であるため、NAは1.4まで上げられる。純水で65nmノードの対応をすることが可能だ。しかし、EUVなどの次世代リソグラフィ技術の開発が遅れているため、液浸技術を45nmノード以降にまで延命する「味付きの水」と呼ばれる高屈折率の液体が必要となる。
高NAを実現するには高屈折率の液体が必須だ。研究者は液浸第2世代の液体として屈折率1.6を目標としている。このレベルの屈折率を持った材料を確保できれば、ArF（193nm）露光装置の実効的な波長は116nmと同程度となる。さらに第3世代では、屈折率は1.8、実行波長は107nm以下が必要だ。
|
