2005年9月号

Process

●ArF液浸露光装置 TWINSCAN XT:1700i

連絡先：蘭ASML社 www.asml.com

●Ultra Low-k膜用CVD装置 Applied Producer Black Diamond II

連絡先：米Applied Materials社 www.appliedmaterials.com

●エッチング装置 Applied Centure AdvantEdge

連絡先：米Applied Materials社 www.appliedmaterials.com

●エッチングチャンバ JIN

連絡先：東京エレクトロン www.tel.com

●エッチング装置 Pegasus

連絡先：英Surface Technology Systems www.stsystems.com 国内連絡先：住友精密工業 www.spp.co.jp

●縦型バッチ式超高温アニール装置 縦型バッチ式超高温 アニール装置

連絡先：日立国際電気 www.h-kokusai.com

●レジスト剥離装置 Aspen III eHighlands

連絡先：米Mattson Technology社 www.mattson.com

●SiC用CVD装置 SiC用薄膜成長装置

連絡先：スウェーデンEPIGRESS社 www.epigress.com 国内連絡先：丸文 www.marubun.co.jp

Metrology and Inspection

●膜厚測定装置 IR3000

連絡先：米Philips Advanced Metrology Systems（Philips AMS）社 www.ams.philips.com

●メタル薄膜測定装置 MetaPULSE-III300

連絡先：米Rudolph Technologies社 www.rudolphtech.com

●重ね合わせ測定装置 Archer AIM＋

連絡先：米KLA-Tencor社 www.kla-tencor.com

Parts

●ArFエキシマレーザー光源 XLA 300

連絡先：米Cymer社 www.cymer.com

Facility

●金属自動測定モニター FIAMO

連絡先：フィアモ www.fiamo.jp

Materials

●CMPスラリー LK393c4

連絡先：米Rohm and Haas Electronic Materials社 electronicmaterials.rohmhaas.com 国内連絡先：ニッタ・ハース www.nittahaas.com

個人情報に関する方針 /著作権・リンクについて / 会社情報