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2006年1月号
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リソグラフィ歩留まり問題に向けた
いくつかの新製品を発表する |
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ケーエルエー・テンコール |
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代表取締役社長 |
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鈴木 淑希 |
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業界全体では、半導体メーカーが当初予定の設備発注を出尽くし、過剰な在庫を徐々に減らしているので、2005年度の受注活動は一段落した。米KLA-Tencor社では、収益は幾分増えると見込まれ、当社製品とソリューションに対する顧客の需要は堅調に推移している。
当社は2006年度を控え、慎重ながら楽観視している。半導体工場の稼働率が高まる傾向の先端分野では、当社のソリューションが最も必要とされている。このため、設備購入が追加されることになるはずだ。また、ユーザーは90nmおよび65nmプロセスの立ち上げに重点的に取り組むことになる。これらの最先端ノードに関連した歩留まり向上という至上命題により、歩留まり管理技術に対する投資が加速されることになる。グローバルな経済環境が不確実なことから、半導体業界の短期的見通しを断言することはできないが、業界の長期的な傾向は引き続き順調であると考えている。
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当社の戦略は、最も包括的かつ高度なプロセス制御製品ポートフォリオおよび専門技術を提供して、ユーザーが新たな歩留まり問題を、最少の所有コスト(CoO)で最大の投資利益率(ROI)を得て解決できるように支援することだ。常に画期的なソリューションの作成を自らの課題とし、ユーザーと緊密に協力して最先端の検査装置と計測システムを開発し、ウェーハ、IC、およびフォトマスク製造者が歩留まり関連のプロセスデータを実用的な情報にすばやく変えて、製造工程において効果的な意思決定ができるようにする。
装置では、当社の明視野検査装置「2800」シリーズは、超広帯域（DUVおよびUV）照明を利用して、最高の感度を実現し、欠陥検出の範囲が広がっているので、新しい材料を使用したプロセスを注意深く監視する必要があるアプリケーションに最適となっている。「Puma 9000」は当社の次世代暗視野ウェーハ検査装置で、当社のイメージングテクノロジ「Streak」を利用して、重大な欠陥を高い確率で捕捉する。また、量産に必要なスループットも向上した。Puma 9000では、Streakを利用し、従来のスキャニングレーザと光電管(PMT)ベースの検査装置に見られた限界を解消している。リソグラフィに照準を当てた検査装置「DesignScan」は、フォトマスクの製造に踏み切る前に、設計段階からフォーカスおよび露光量の変動が原因で発生するすべての欠陥（ホットスポット）を検出することができる。DesignScanにより、RET (超解像技術)を適用したマスク設計のプロセスウィンドウ全域における適正をモニタする、インライン検査が可能となる。
SEMICON Japanでは、業界最難関のリソグラフィ歩留まり問題に向けたいくつかの新製品を発表する。例えば、現在半導体工場では、ArF（193nm）の照明で露光が長引いた結果、フォトマスクに形成される欠陥タイプ、結晶成長の問題が表面化している。結晶が成長して大きくなりプロセスウィンドウに影響を与えたり、デバイスパフォーマスを低下させる前に、言い換えると、欠陥がウェーハにプリントされて致命的な歩留まり損失を引き起こす前に、この欠陥を識別することが不可欠だ。2005年11月に、この問題を解決するための新しい革新的なマスク検査技術を提案する。
SEMICON Japan 2005は大成功を収めると考えている。日本は現在、半導体設計とプロセス開発の中枢であり、家電業界の開発を支える、半導体業界第一の推進者だ。すべてのSEMICON展示会の中で、SEMICON Japanがこれまで最も参加者が多かった事実と併せると、SEMICON Japanを中心に数多くの斬新な技術が発表されることは疑いなく、半導体業界全体がその経過に注目している。 |
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