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| ..2006年4月号 |  |
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| Hyper-NA液浸リソグラフィ技術を阻む 偏光効果という問題 |
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液浸リソグラフィを32nmノード以降で適用するには、高屈折率を持った液体、レンズそしてレジストの各材料で革命的な技術が必要となる。解像度を得るためには、光学系の開口数（NA）が1.0以上のHyper-NAレンズが必要となるが、Hyper-NAレンズでは偏光効果という問題に直面する。業界は、解決に向けてまだ動き始めたばかりだ。 |
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| 低コスト技術を作り込めなかったニッポン 日本版 編集顧問 津田建二 |
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| 65nm以降のリソグラフィに対応可能な2層レジスト | ||||
| バーチャル 対 バーティカル DFMはどのようにしてファンドリを変えて行くのか？ |
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| コスト最優先で作るTIの最新300mm工場 | ||||
| 2006年半導体市場：安定成長を堅持 | ||||
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| Siモジュレータを小型化できるフォトニック結晶技術 | ||||
| 省エネで大幅にコスト低減 | ||||
| ArF液浸リソグラフィ技術が32nm以降も視野に | ||||
| ナノインプリントのテンプレートには高性能な検査が必要 | ||||
| Siに応力を加えると信頼性を犠牲にしなければならないのか？ | ||||
| ナノオーダーでキャリブレーションを行うことができる“ものさし” | ||||
| RF MEMSへの圧力モニターの搭載 | ||||
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| 技術主導型の企業が本領発揮 | ||||
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| 米Entegris社 CTO John Goodman氏 |
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