「実態が調査結果に十分反映されなかった理由は、与えられた情報が不十分だったからだろう」とConley氏は述べた。「また、多くの装置メーカーは、新しい液浸用液体を組み込むだけのシステムを追求していくかどうかに関して極めてオープンだと思う。コスト、プロセスの実現性、そして、これらの液体がどのような安定性を有するかについての懸念がある」としている。
2012年以降に行われる製造技術にEUVLが選択された主な理由は拡張性のようだ。半導体メーカーとサプライヤでいくらかの食い違いはあるものの、EUVL技術に対する最大の懸念はCoO(Cost of Ownership)である。「露光装置メーカーはそれほど大きな問題ではないと見ている」と、リソフォーラムで最初に調査結果が発表されたときRoman氏は述べた。ウェブキャストの質疑応答で同氏は「一般的に、装置メーカーの観点から言うなら、ここに赤で強調してある事柄の多くについて、装置メーカーの方が日々対応している。だから露光装置メーカーはこれらの事柄に対応するにはどの技術ソリューションが準備できるか知っている」。Golda氏は「露光装置のスループット、光源寿命、マスクの有用性という具合に、それらはCoOの主要素になっている。人々が期待している技術は2012年までには準備が完了する。各分野ですばらしい進歩が見られており、研究が前進していることが分かる」。
リソフォーラムでは様々な二重露光技術に関して相当の議論があり関心が寄せられたが、有力候補になるには恐らくまだ十分ではない。「確かに、二重露光が今では実行可能な選択肢になったという認識は広がっている」とLercel氏は述べた。「しかし、特にエンドユーザーの回答結果を注意深く見てみると、二重露光に関係する多くの技術的課題に深刻な懸念を持っていることが分かる。そして、特にコストに対する懸念が調査結果によく表れている」。
