Yield Management 2006年10月号

2006年10月号

Yield Management

SierraとMentorのLitho-Friendly Design共同作業

Laura Peters

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　米Sierra Design Automation社はリソグラフィーデータを設計段階に持ち込むために、米Mentor Graphics社と協力しており、65nmと45nmデザインをターゲットにしたIC実装デザインフローのプロセスとリソグラフィばらつきに対応する。Sierraは最近、「Olymps-SoC」を発表した。それは設計と製造環境間のギャップに橋渡しを必要とするIC実装システムである。Olympus-SoCは次世代ネットリスト-to-GDSIIシステムで、同社のタイミングクロージャーに対処する。Olympus-SoCは変動ソリューション、Sierra Pinnacle用のSierra設計上に築かれ、リソドリブンルート技術とともにそれを拡張する。Sierraは、この新しいソルーションは65nmとそれ以下のプロセス用のワイヤレス、手持ちサイズのコンピュータ、画像、セットトップボックス、ネットワーク、そしてプロセスアプリケーションの分野において、良質の顧客をターゲットにしている。Olympus-SoCは現在、検証中で、年内には正式な提供が開始される。
　Mentorとの協力の発表のもとで、SierraのOlympus-SoCはMentorのCalibre Litho-Friendly Design(LFD)と相互作用して、リソグラフィのホットスポットとリソフレンドリーな設計を入手できる。　　「Sierra Design Automationとばらつきを考慮した実装システムを開発できた。といのも、設計フローの初期ステージでタイミング・ドリブン・レイアウト修正トレードオフをつくるための分析を活用する理想的なプラット・フォームであり、プロセスウィンドウのいたるところで、劇的にレイアウトの堅牢性を向上させる」とMentor Graphicsバイスプレジデント兼Design to SiliconゼネラルマネージャJoe Sawicki氏は述べた。
　「リソグラフィ工程におけるホットスポット除去技術は、タイミング性能やOCV関連の重要設計メトリクスを考慮せずにレイアウトの修正を行なう」とSierra Design Automation CEO兼社長のPravin Madhani氏は述べている。「SierraのIC実装システムはCalibre LFDシュミレーションによって特定されたエラーのモデルを作る。また、タイミングクロージャを確定している間に設計し、レイアウトを修正できる。