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技術的な限界に直面している計測・検査・解析技術において、
当社コア技術を活かした新技術・製品の開発により課題を克服する |
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日立ハイテクノロジーズ
半導体製造装置営業統括本部長執行役常務
中野 和助 |
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2006年の半導体市場は、大画面テレビ、携帯電話、デジタルカメラなどのデジタル家電関連製品の需要拡大に伴い半導体市場が堅調に推移した一年であった。2007年は目立った牽引アプリケーションが期待できないため停滞感があるものの、その後2008年まで成長基調が持続するとみている。
製造装置市場は、2006年は全体として設備投資の活発化に伴い堅調に推移したが、特に特定メーカーの積極的な設備投資に支えられ好調に終える見通しだ。2007年は、投資規模が企業や工程分野により大きなばらつくと予想され、装置市場も踊り場的な年になると観ている。
当社は、2006年後半にウェーハ検査装置関係におけるディフェクトレビューSEM「RS-4000E」、また、電子顕微鏡関係では超高分解能分析走査電子顕微鏡「SU-70」、球面収差補正機能付走査透過電子顕微鏡「HD-2700」を発表した。
SEMICON Japan 2006では、新製品として次の5製品を出展する。最重点分野である計測･検査･解析分野では、高分解能FEB測長装置(新型測長SEM)、設計データ応用計測システム「DesignGaugeV2」、超高分解能分析走査電子顕微鏡「SU-70」、球面収差補正機能付走査透過電子顕微鏡「HD-2700」の4製品を新発売する。プロセス装置分野では、蘭ASML社製ArF液浸スキャン露光装置を新発売する。
SEMICON Japanは今年で30周年を迎えたが、半導体分野の技術的進歩発展に大きな貢献をしたことは喜ばしい。IT技術が進歩した高度情報化時代においても、有益なイベントと位置付け、日立グループの存在感を、お客様はもちろん、いろいろな方々に直接アピールできる機会として有効活用を図っていく。
当社は、今後、さらなる微細化に伴いますます重要になる計測・検査・解析の分野におけるソリューションの拡充を図る。また、プロセス装置では、微細パターン形成に寄与する次世代の露光装置やエッチング装置を提供し、高度化・多様化するプロセスニーズに応えていく。
今注目しているのは、新構造、新材料、新プロセス、新回路構成などを融合した新たなデバイスの製造技術だ。微細化の更なる進行により、計測・検査・解析の技術が限界に直面しているが、コア技術を活かした新技術・製品の開発により課題をクリアーすべく注力する。新プロセス技術・新材料の導入に伴い、装置技術の開発もタイミングよく完了することが求められている。そのためには、基礎技術段階における共同開発を円滑に行うための受け皿として好適なコンソーシアムなどの開発環境の整備拡充を望む。 |
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