近年は放電生成プラズマ（DPP）方式光源がEUVリソグラフィのβ露光装置の最有力候補と考えられてきたが、先日米メリーランド州ボルチモアで行われた米SEMATECH主催のEUV Source Workshopで会った研究者らによると、レーザー生成プラズマ（LPP）方式光源が勢いを増しているようだ。

　光源サプライヤによると、Sn放電のLPPベース光源は短期では最大130Wを出力可能であり、高効率集光器を使うと中間集光点（IF）で40W以上の輝度が実現できる。これら光源が実用化され信頼性のあるコレクタ付きEUV光源SoCoMo（Source-Collector Module）と統合できれば、2009年納入予定EUV露光装置β機の最小要件40～60Wを満たすのに十分な出力量である、とSEMATECH技術スタッフのシニアメンバーVivek Bakshi氏は述べた。

　「Snを照射ターゲットとするLPPベースのEUV光源は、発光高度が高く、EUVリソグラフィ露光の出力要件を満たす可能性が高まっている」とBakshi氏は述べた。「これはよいニュースだ。なぜなら、SnベースのLPP EUV光源技術は大量生産に適した多くの特質を備えているからだ」。

　最新のLPPベースシステムでは、ほんの少量のSnに高出力レーザーを照射することでEUV光が生成される。その後EUV光は、回路パターンを転写するため、特別な鏡によって集光される。

　LPPベース光源と並行してDPPベース光源もまだ検討されている。実際、DPP光源の方が現在のところは高出力、省エネ、低コストで、EUV露光装置のα機に統合されている。DPPベースEUV光源の低出力版は、EUVマイクロ露光機や、EUV測定技術とレジストの開発プロジェクトに対応するため使用されてきた。

　しかし、DPP光源の問題はEUV光源から発生する熱とデブリ（飛散物）で、これはスキャナの部品に深刻なダメージを与える可能性があるが、DPPベースのシステムだとそれら熱とデブリの管理がより難しくなる。しかも、最近はLPPベース光源の出力に必要な高出力レーザーが進歩していることもあって、LPP方式の実現可能性がますます高まっている、とBakshi氏は述べた。

　SEMATECH主催の同ワークショップで、12のサプライヤと研究開発グループは、EUV光源への備えがあることと、Snを照射ターゲットとしてEUV光を生成する高出力レーザーシステム3タイプの開発計画を発表した。パルスCO₂レーザーは最も高出力（7kW）だが、まだ開発段階であり、連続稼動が実現できていない。最大出力1.5kWで連続稼動可能なNd：YAGレーザーモジュールはすでに商業生産されており、最大出力3kWのモジュールも開発中である。ファイバーレーザーは省エネ・低コストで微細加工が容易だが、CO₂レーザーとNd：YAGレーザーより開発が進んでいない。

　これら3つのレーザーシステムはどれも、EUVスキャナの実用化に必要な10?20kWを出力できないが、出力の足りないシステムを「多重化」することで、必要なワット数を得られる可能性がある。「個々のレーザーモジュールの出力や信頼性が向上するにつれて、少ないモジュール数でもLPPベース光源で十分な出力が達成されるだろう」。

　5月には、英Powerlase Ltd社が高出力Starlaseレーザーの導入を発表した。同社によると、2kWクラスのモジュールは、LPPベースEUV光源向けの空間的・一時的な多重化技術と組み合わされるDPSS（Diode-Pumped Solid-State）レーザーで、EUVリソグラフィに必要な出力能力が期待されている。

　同ワークショップではSoCoMo開発の課題についてのパネルディスカッションも行われた。SoCoMoはEUV光源、デブリ軽減装置、スペクトル純度フィルタ、コレクタミラーで構成され、汚染されていないEUV光子をEUVスキャナに運ぶ。「パネリストのほとんどは、SoCoMoの成功が、光源、コレクタ、スキャナメーカー、研究施設、そしてエンドユーザーという関係当事者すべての協力にかかっていることで意見が一致した」とBakshi氏は述べた。「近い将来、光源サプライヤに代わって、スキャナメーカーとのコラボレーションで開発・最適化されたSoCoMoを提供するサプライヤが現れそうだ」。

　「中間集光点で40～60Wの出力レベルを有し、信頼性のある連続稼動が数週間可能であるEUVβ機の光源を2008年末までに実証するには、効率的な協力が不可欠だ」とSEMATECHのEUV戦略プログラムマネージャStefan Wurm氏は述べた。「そうすることで、十分に準備されたβ機の光源が2009年のEUV露光装置β機との統合に間に合う」。