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NECファブサーブ、フォトマスク事業を大日本印刷に譲渡
[issued: 2007.01.05]
大日本印刷、NECエレクトロニクス、およびNECエレクトロニクス100%子会社のNECファブサーブの3社は、NECファブサーブのフォトマスク製造および販売事業を、2007年6月1日を目処に大日本印刷へ譲渡することで合意したと発表した。
今回の合意により、NECファブサーブは新たに子会社を設立し、フォトマスクの製造および販売事業を新会社に移管した上で、新会社の株式を大日本印刷に譲渡する。また、NECエレクトロニクスが保有しているフォトマスク関連の設備についても大日本印刷に譲渡する。なお、事業の譲渡後も3社はフォトマスクの開発および製造に関する事業協力を継続していくという。
今回の事業協力により、大日本印刷は、フォトマスクの開発および製造体制を強化し、量産効果を高め、トータルコストの低減、事業の強化および拡大を図る。一方、NECエレクトロニクスは、フォトマスク事業を大日本印刷に譲渡することで、半導体事業全体の競争力を高めていきたい考え。
今後、半導体製造においては45nmや32nmなどプロセスのさらなる微細化が予測されており、フォトマスクの開発および量産技術の確立が重要なテーマとなっている。特にフォトマスクの開発コストや設備投資の負担は、年々増大する傾向にあり、生産規模が小さい場合にコスト競争力が低下することが予測される。こうした状況において、3社はお互いの技術力を評価した上で利害が一致、今回の事業協力の合意に達したという。3社は今後、フォトマスクの開発および生産に関する協力を維持し、それぞれの事業分野で積極的な事業展開を行っていく予定。
今回の合意により、NECファブサーブは新たに子会社を設立し、フォトマスクの製造および販売事業を新会社に移管した上で、新会社の株式を大日本印刷に譲渡する。また、NECエレクトロニクスが保有しているフォトマスク関連の設備についても大日本印刷に譲渡する。なお、事業の譲渡後も3社はフォトマスクの開発および製造に関する事業協力を継続していくという。
今回の事業協力により、大日本印刷は、フォトマスクの開発および製造体制を強化し、量産効果を高め、トータルコストの低減、事業の強化および拡大を図る。一方、NECエレクトロニクスは、フォトマスク事業を大日本印刷に譲渡することで、半導体事業全体の競争力を高めていきたい考え。
今後、半導体製造においては45nmや32nmなどプロセスのさらなる微細化が予測されており、フォトマスクの開発および量産技術の確立が重要なテーマとなっている。特にフォトマスクの開発コストや設備投資の負担は、年々増大する傾向にあり、生産規模が小さい場合にコスト競争力が低下することが予測される。こうした状況において、3社はお互いの技術力を評価した上で利害が一致、今回の事業協力の合意に達したという。3社は今後、フォトマスクの開発および生産に関する協力を維持し、それぞれの事業分野で積極的な事業展開を行っていく予定。
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