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大日本印刷、台湾に65nmフォトマスクの新工場を建設

[issued: 2007.01.23]

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 大日本印刷(DNP)は、台湾の新竹科学工業園区(サイエンスパーク)内に、フォトマスクの新工場を建設すると発表した。建物、製造設備、付帯設備を含めた初期投資額は約200億円で、台湾およびアジア地域で拡大する半導体生産に対し、65nmを中心とした先端フォトマスクの安定供給および短納期対応を図る。
 現在、台湾では300mmウェーハに対応した半導体工場が多く、今後も半導体メーカーによる最先端工場の建設が予定されており、台湾を含むアジア地域のフォトマスク市場は今後も高い成長率が見込まれている。
 DNPは、2006年8月にサイエンスパークへの入園許可を得た後、台湾に新会社のDNP Photomask Technology Taiwan社を設立、新工場建設に向けた準備を進めてきた。新工場は、建築面積2829m2、延べ床面積9538m2、微振動対策免震構造の鉄骨地下1階地上4階建で、クリーン度はClass-1環境のクリーンルームを完備する。2007年4月に着工し、2008年5月の稼働開始を予定している。
 同社では、埼玉県上福岡工場、京都府吉祥院工場、神奈川県川崎工場、岩手県北上工場の国内4拠点に加え、イタリアのアグラテ工場、さらには今回建設する台湾の新工場により、フォトマスクの供給体制を強化し、今後も増加が見込まれる65nmおよび45nmフォトマスクのシェア拡大を目指す。なお、新工場は 2008年9月から量産を開始する予定で、量産開始から半年で50億円、2009年度には120億円の売り上げを見込んでいる。



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