News Center
GEとトッキ、有機ELディスプレイ向けPECVD膜封止技術と装置を共同開発
[issued: 2007.03.06]
米General Electric社の中央研究所のGE Global Researchと製造装置メーカーのトッキは2日、有機ELディスプレイ向けのPECVD膜封止技術と製造装置の共同開発を進める合意書に調印した。この共同研究により有機材料の膜封止が実現すれば、有機ELディスプレイの厚さを0.5mm以下に薄型化でき、製造コストの大幅な低減が期待されている。この合意により、GE Global Researchが特許をもつPECVD膜封止プロセスをトッキにライセンス供与し、トッキが有機ELディスプレイ製造装置を開発する。
有機EL(OLED: Organic Light Emitting Diode)は、大気中の水分や酸素によって有機材料が劣化してデバイスの機能を損なうため、これまで密封手段としてガラスや金属製缶が使用されてきた。しかし、この方法ではデバイスの厚みが1.5mmから2mmほどになり、有機ELの用途を広げるために薄型軽量化を実現する技術が求められていた。GE Global ResearchがPECVDで開発した膜は、0.1μmから2μmと格段に薄く、有機ELディスプレイに封止膜として適用する技術が確立できれば、フレキシブル・ディスプレイなどの実現も可能になる。
この共同研究でGE Global Researchの膜封止技術を導入した製造装置によるパイロットラインの開発を目指し、最終的には有機ELディスプレイや有機エレクトロニクス製品の製造に広く使用できるPECVD膜封止装置の商品化を目標としている。
GE Global Researchで有機エレクトロニクスの技術プログラムを率いているAnil Duggal氏は発表文で、「この研究の目的はGE Global Researchが開発した封止技術を製造プロセスに組み込めるようにすること」と述べ、トッキの津上健一社長は、「このプロジェクトの成功は、有機ELフラットパネルディスプレイの市場機会を大きく拡大し、有機エレクトロニクスの新しい市場を創出することになる」と述べている。
(Ann Steffora Mutschler, Electronic News)
有機EL(OLED: Organic Light Emitting Diode)は、大気中の水分や酸素によって有機材料が劣化してデバイスの機能を損なうため、これまで密封手段としてガラスや金属製缶が使用されてきた。しかし、この方法ではデバイスの厚みが1.5mmから2mmほどになり、有機ELの用途を広げるために薄型軽量化を実現する技術が求められていた。GE Global ResearchがPECVDで開発した膜は、0.1μmから2μmと格段に薄く、有機ELディスプレイに封止膜として適用する技術が確立できれば、フレキシブル・ディスプレイなどの実現も可能になる。
この共同研究でGE Global Researchの膜封止技術を導入した製造装置によるパイロットラインの開発を目指し、最終的には有機ELディスプレイや有機エレクトロニクス製品の製造に広く使用できるPECVD膜封止装置の商品化を目標としている。
GE Global Researchで有機エレクトロニクスの技術プログラムを率いているAnil Duggal氏は発表文で、「この研究の目的はGE Global Researchが開発した封止技術を製造プロセスに組み込めるようにすること」と述べ、トッキの津上健一社長は、「このプロジェクトの成功は、有機ELフラットパネルディスプレイの市場機会を大きく拡大し、有機エレクトロニクスの新しい市場を創出することになる」と述べている。
(Ann Steffora Mutschler, Electronic News)
TOP 10 ページ
- 2009年も半導体製造装置市場は縮小 前年比25%の減少へ
- 2008年1Q~3Qの半導体メーカーランキング、 QUALCOMMとBroadcomが躍進
- 半導体製造装置の2009年売上高は 「2004年以前の低水準」に
- ASML、ニコンから露光装置の次世代プラットフォームが出揃う 焦点はダブルパターニングへの対応と生産性の向上
- ポリシリコンの価格は2008年で頭打ちに、2009年以降は下落か
- 金融危機の影響で、2009年の 半導体市場は250億米ドル以上の損失か
- FormFactor、DRAM テスト能力を倍増する ウェーハプローブカードを発表
- マスクレベル測定技術の重要性: フラッシュメモリーのCD均一性に大きな影響
- NAND型フラッシュは2008年から2009年にかけて 「歴史的な下降局面」を迎えるとの見方
- パナソニック、三洋電機の買収へ向けた提携を発表
SI Japan テクニカルセミナー
最近のテクニカルセミナー情報
-
Semiconductor International日本版
第21回テクニカルセミナー
『太陽電池を輝かせる製造技術~究極のエコ技術の現在と未来~』
-
Semiconductor International日本版
第20回テクニカルセミナー
『MEMS ルネッサンス』
-
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
?Double Patterningか?直描か?」
セミナー関連記事はこちらから -
Semiconductor International日本版
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
?装置とプロセスをどう制御するのか??」
関連記事はこちらから
EVENTS
-
第1回アナログセミナー「アナログICを選ぶ、使う」
2008年 12月03日ー2007年12月03日
東京コンファレンスセンター・品川(東京・品川) -
航空宇宙産業技術展2008(AITEC 2008)
2008年 11月27日ー2007年11月29日
名古屋市国際展示場(ポートメッセ名古屋) -
計測展2008 OSAKA
2008年 11月26日ー2007年11月28日
大阪国際会議場(グランキューブ大阪)









