JSRは、第2世代液浸リソグラフィ用材料として屈折率1.64を達成した液体を開発したと発表した。ArFエキシマレーザー(波長193nm)での透過率は純水よりも高く、同時に屈折率は1.64を実現した。JSRでは、次世代液浸露光技術の実用化に一歩近づいたと考えており、引き続き装置メーカー、大手半導体メーカーの協力を得て検討を行う予定としている。

従来の高屈折率液体は、屈折率の目標値は達成していても、透過率が水のレベルを達成できず課題となっていた。今回JSRが独自に開発した材料では、波長193nmで99.5％/mmの透過率を確認したとしている。ちなみに水の透過率は99.2％/mm。また、酸素の吸収が少なく大気にさらされても性能が安定しており、さらに蒸気圧が低いため熱分解が起こりにくいことが確認された。実用化の際に必須となるリサイクルシステムにも適した材料となっている。

この発表は、2月26日から米国カリフォルニア州で開催されている国際会議「SPIE Advanced Lithography 2007」において発表された。