信越化学工業と凸版印刷は、45nmおよび32nmに対応したフォトマスクブランクスを共同開発したと発表した。これにより、フォトマスクの微細加工精度が高まり、高精度かつ信頼性の高い最先端フォトマスクの供給が可能になるという。デバイスメーカーはこのフォトマスクブランクスで製造されたフォトマスクを使用することで、最先端半導体の製造プロセス構築段階に行うフォトマスク最適化に要する時間を短縮できると期待される。
　製品開発においては、信越化学がフォトマスクブランクスを開発、凸版印刷が開発製品の評価ならびにフォトマスク製造の新プロセス開発を担当した。従来のフォトマスクブランクスをコンセプトから見直し、従来製品にない革新的な材料構成を実現したとしている。新たに開発したフォトマスクブランクスは優れたエッチング特性を有しており、フォトマスク製造においてはその特性を引き出すための新プロセスを確立、45nmおよび32nmで要求される高い精度の製品を安定的に製造することを可能にした。
　今回の共同開発により、信越化学工業はハイエンドフォトマスクブランクス事業に進出し、最先端分野を強化する。一方、凸版印刷はこれまで以上に高い精度と信頼性を実現した先端フォトマスクの供給を行う計画。なお、両社は新フォトマスクブランクスおよび新フォトマスクブランクスを用いたフォトマスクサンプルの出荷を順次開始している。