日本精工(NSK)とブイ・テクノロジーは、新方式露光装置EGIS(Exposure System Guided by Image Sensor)に関する技術の実施許諾契約を締結し、LCD製造に適用される新方式露光装置EGISの製造・販売について協力することで合意したと発表した。
　今回の合意によって両社は、NSKの持つ露光装置製造に関する技術とブイ・テクノロジーの持つ新方式露光装置EGISに関する技術を相互利用し、新方式の露光装置の製造および販売を行う。LCDパネルメーカーは、EGISを導入することにより、マスクのランニングコストを下げるとともに、製造プロセスの信頼性や製造の歩留まりを向上させ、大型LCD基板の製造コストの大幅な削減が可能になるとしている。
　ブイ・テクノロジーが開発した露光装置EGISは、小型マスクと画像検出ユニットで構成される「In-situ Local Alignment System」を採用、露光位置に近接したガラス基板上のパターンを認識することで、マスクの精密位置決め制御を実現している。
　今後、両社は新方式の露光装置EGISの製造・販売を協力して進め、2007年8月の出荷開始を目指す。