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大日本スクリーン製造、
半導体製造プロセスの開発拠点を建設
[issued: 2007.04.05]
プロセス技術センターの完成イメージ
今回着工するプロセス技術センターは、半導体製造におけるプロセス技術の開発機能を統合し、評価・分析など微細化が進む最先端デバイスのプロセス開発に対応できる施設として建設される。プロセス開発や装置開発を行う専用のクリーンルームと実験装置を備えるとともに、洛西、野洲、多賀の各工場でプロセス開発に携わる技術者約350人を集結させる。デバイスメーカーからの依頼によるプロセスデモンストレーションや、次世代プロセスの確立に向けた評価・解析など、ユニット単位での小規模なプロセス評価から300mmウェーハの連続処理まで、幅広い研究開発が同一施設内で可能となり、先進のプロセス開発の効率化や迅速化を実現する。また、同センターは半導体洗浄装置の製造拠点であるFab.FC-1およびFab.FC-2に隣接しており、評価・分析により確立したプロセス技術を迅速に製造技術へとフィードバックできるため、生産装置に対する先進技術のタイムリーな導入を実現するという。
同社は、今回のプロセス技術センター建設により、プロセス技術の創造と品質の向上を図り、洗浄装置市場における競争力の強化とシェア拡大を目指す。
■プロセス技術センターの概要
名称:彦根地区事業所「プロセス技術センター」
所在地:滋賀県彦根市高宮町480-1
敷地面積:約6600m2 (彦根地区事業所の総敷地面積は約14万4300m2)
建築面積:約3900m2
延床面積:約1万1200m2
構造:鉄筋コンクリート造 3階建
総工費:約80億円
着工:2007年4月
稼働開始予定:2008年4月
主な用途:半導体製造プロセスの研究・開発
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