米Luminescent Technologies社は、超解像技術(RET: Resolution Enhancement Technology)として知られるインバースリソグラフィ技術(ILT: Inverse Lithography Technology)について、米国特許商標局から2番目の特許となるレベルセット法(level-set method)の認可(No. 7,178,127 B2)を得たことを発表した。

　レベルセット法は同社のILTにより45nmと32nmのパターンを生成するために中枢技術で、最近開催されたSPIE Advanced Lithography Conferenceで成果が報告された。この技術はDr. Stanley Osher氏が1988年に発明しさまざまなアプリケーションのエンジニアリングで利用されている。Luminescentはこの技術により、光近接効果補正(OPC: Optical Proximity Correction)より優れたマスク合成ソリューションを確立して製品化した。

　Luminescentが開発したILTは、ウェーハ上に望まれる回路パターンから出発して、適用可能な光リソグラフィ空間を数学的に逆算して、製造可能なマスクパターンを生成する。ILTはマスクパターンを高い忠実度で再現して広いプロセスウィンドウで転写することが可能で、現行最先端のArF(193nm)波長の露光装置を45nmと32nmのIC設計に活かすことができる。

　特許を取得したレベルセット法は、フォトマスクのパターンをレベルセット関数で定義された輪郭線を使って表現し、フォトリソグラフィック・プロセス、最終パターンに関連する設定、プロセス変動に対する堅牢性、製造上の現実性や経済性に関する制約などについて「メリット関数」を使用して輪郭線を最適化する。

　LuminescentのCEO、David Fried氏によると、同社には申請中の特許が他に19あり、今後も知的財産の強化に努めることにより、OPCに対する優位性を訴求していく。