米KLA-Tencor社は、解像度向上技術(RET：Resolution Enhancement Techniques)および光学的近接効果補正(OPC：Optical Proximity Correction)プロセスの開発期間およびコストを大幅に低減するLinuxベースのリソグラフィ最適化ツール「LithoWare」を発表した。LithoWareは、RETおよびプロセス条件を同時に最適化する一方、キャリブレーションデータ収集を最小限に抑えることによって量産化までの期間を短縮する業界標準モデル「PROLITH」をベースとしている。
　同ツールはLinux環境で動作し、EDA製品との互換性を確保。GDSⅡファイルをロードし、複数のシミュレーション領域を選択し、照明を即座に変更することでOPC修飾を対話型で実行し、OPC調整が施されたマスククリップをGDSⅡファイルとして出力することができる。
　32nm世代における開発に必要なリソグラフィシミュレーションの回数は数億回に及ぶとされる。Linux環境で動作するLithoWareは、多数のコンピュータに対して大量のシミュレーションを振り分けて処理する。その結果、エンジニアは、高度な計算によるリソグラフィを実行し、多数のプロセスパラメーターを探求できる。こうした作業は個々のPCでは不可能であり、他のツールを使用して行う場合も、変更のたびに大規模な再キャリブレーションを行う必要がある。
　LithoWareは、Linuxベースのアーキテクチャで動作するため、既存のコンピュータ資産を活用でき、ハードウェアの追加も不要。RET/OPCエンジニアや設計者は、考案したデザインや新しいアイディアにリソグラフィ違反がないかどうかを簡単に確認でき、サイクルタイムを短縮することができる。また、プロセスエンジニアやファウンドリパートナーからプロセス情報や結果が提供されるのを待つ必要もなくなるという。
　同社は、6月4日から米国サンディエゴで開催される「Design Automation Conference」においてLithoWareのデモを実施する予定。