News Center
IBMとTDK、スピン注入磁化反転法を適用したMRAMを共同で開発
[issued: 2007.08.20]
米IBM社とTDKは、スピン注入磁化反転法を適用した次世代大容量MRAMの共同研究開発を開始したと発表した。
IBMはこれまで、MRAMメモリー技術開発、MTJ(Magnetic Tunnel Junction)要素技術の研究開発、メモリーにおけるスピン注入磁化反転法の予測および研究を行ってきた。一方、TDKはMTJ技術をHDD向け記録ヘッドに適用してきた。両社は磁気データ記録のための材料や設計においても多くの研究成果と特許を保有しており、両社が培ってきた新しいメモリー技術や磁性素子開発の専門知識を活用することで高密度・高容量のMRAMの実現を目指すという。
MRAMは低消費電力・高速動作・書換え耐性・不揮発性などの点で、他のメモリー技術と比べて優れた特徴を有しているが、コスト効率よく高容量化することが課題であった。両社は、MRAMの特徴を維持しつつスピン注入磁化反転法を適用することで、現行の磁化反転方式と比較してメモリーセルの小型化が可能となり、高いコストパフォーマンスで大容量化が可能になるとしている。これにより今後は、車載、携帯電話、ハンドヘルドPC、産業機器向けメモリーなどへの応用が期待される。
IBMはこれまで、MRAMメモリー技術開発、MTJ(Magnetic Tunnel Junction)要素技術の研究開発、メモリーにおけるスピン注入磁化反転法の予測および研究を行ってきた。一方、TDKはMTJ技術をHDD向け記録ヘッドに適用してきた。両社は磁気データ記録のための材料や設計においても多くの研究成果と特許を保有しており、両社が培ってきた新しいメモリー技術や磁性素子開発の専門知識を活用することで高密度・高容量のMRAMの実現を目指すという。
MRAMは低消費電力・高速動作・書換え耐性・不揮発性などの点で、他のメモリー技術と比べて優れた特徴を有しているが、コスト効率よく高容量化することが課題であった。両社は、MRAMの特徴を維持しつつスピン注入磁化反転法を適用することで、現行の磁化反転方式と比較してメモリーセルの小型化が可能となり、高いコストパフォーマンスで大容量化が可能になるとしている。これにより今後は、車載、携帯電話、ハンドヘルドPC、産業機器向けメモリーなどへの応用が期待される。
TOP 10 ページ
- “金融恐慌”で、さらなる災難に見舞われるDRAMサプライヤ
- 業界再編以外に残された道は
- MicronのQimondaを買収、アナリストが可能性を示唆
- 2008年Q2のNAND型フラッシュメーカーランキング、 iSuppliが発表、採算がとれたのはSamsungだけ
- ASML、EUVリソ開発は順調と発表
- Hynix、200mm工場閉鎖の前倒しで 300mmへの移行を加速
- 450mmウェーハは必要ですか?
- IBM、新型メモリー「Racetrack」を台湾ITRIと共同研究
- SEMIがSEC/Nを買収、 中古半導体製造装置市場も包括サポートへ
- KLA-Tencor、EUV対応のモデリング・パターン推定ツールを発表
SI Japan テクニカルセミナー
最近のテクニカルセミナー情報
-
Semiconductor International日本版
第21回テクニカルセミナー
『太陽電池を輝かせる製造技術~究極のエコ技術の現在と未来~』
-
Semiconductor International日本版
第20回テクニカルセミナー
『MEMS ルネッサンス』
-
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
?Double Patterningか?直描か?」
セミナー関連記事はこちらから -
Semiconductor International日本版
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
?装置とプロセスをどう制御するのか??」
関連記事はこちらから
EVENTS
-
第1回アナログセミナー「アナログICを選ぶ、使う」
2008年 12月03日ー2007年12月03日
東京コンファレンスセンター・品川(東京・品川) -
航空宇宙産業技術展2008(AITEC 2008)
2008年 11月27日ー2007年11月29日
名古屋市国際展示場(ポートメッセ名古屋) -
計測展2008 OSAKA
2008年 11月26日ー2007年11月28日
大阪国際会議場(グランキューブ大阪)









