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東芝とNECエレ、32nmプロセス技術の共同開発で合意

[issued: 2007.11.27]

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　東芝とNECエレクトロニクスは、32nm世代のシステムLSIプロセス技術を共同で開発することで合意したと発表した。

　両社は、2006年2月から45nm世代に対応するシステムLSIプロセス技術を共同で開発。引き続き32nm世代でも共同開発を行うことで、量産に向けた先端プロセスの開発を加速するとともに、開発コストの負担を両社で分担することで投資効率の向上を図る。

　今回の合意により、両社は現在45nmの共同開発を行っている東芝のアドバンストマイクロエレクトロニクスセンター（横浜市）にて32nmの共同開発を推進、開発効率の向上を図る。ただ、両社で開発するのは基幹プロセスとし、それ以外の付加プロセスや差異化プロセスについては、協議して個別に決めるという。また、共同生産を含めた製品の生産については、2008年中に方針を決定するとしている。