米Axcelis Technologies社は、同社の枚葉式Optima製品シリーズの新製品として高エネルギーイオン注入装置「Optima XE」を発表した。Optima XEは、10keVから4MeVまでのエネルギーレベルに適応している。Optimaシリーズの高い柔軟性と幅広いエネルギー範囲を備え、1台で、DRAM、NAND型およびNOR型フラッシュメモリー、組み込み型メモリー、ロジックデバイスの製造における様々な高エネルギーニーズに対応する。

　Optima XEは、製造において実績の高い同社の高周波線形加速器（RFリニア）用高エネルギー、スポットビーム技術に、最新型の高速枚葉式エンドステーションを組み合わせ、これまでにないスループットを実現。Axcelisの高度なスポットビームは、ウエーハ上のすべてのポイントに同角度で同じビームを照射し、極めて優れたプロセスコントロールと最高の歩留まりを実現する。なお、Axcelisは、Optima XEよりもエネルギーレベルの低いOptima HEイオン注入装置も発表した。