ギガフォトンは、液浸のダブルパターニングに対応した露光装置用の光源として、インジェクションロック技術を搭載したArFエキシマレーザーの新製品「GT62A」を開発したと発表した。同レーザーは、発振周波数6000Hzで、90Wの高出力を実現。同社では、すでにレーザーテストを終えており、2008年中頃から液浸露光装置に搭載されて半導体工場での稼動が開始されると見込んでいる。

　現在、45nm対応の液浸リソグラフィ技術が量産に適用されつつあるが、次世代の32nmについては液浸のダブルパターニングが最有力候補とされている。液浸ダブルパターニングの装置では露光の解像性能に加え、高スループット、高稼働率が求められ、光源のレーザーに対してはさらなる高出力、高稼働率、運転コストの低減といったことが求められる。

　ギガフォトンは、こうしたリソグラフィロードマップに対応し、2005年末に液浸露光用ArFエキシマレーザー「GT60A」（発振周波数:6000Hz、出力:60W)の量産出荷を開始。その後、2006年末にはスペクトル性能を0.35pm(E95％)まで高め、安定化技術を標準搭載した「GT61A」を出荷した。

　今回発表したGT62Aは、GTシリーズの最新モデルで、インジェクションロック方式を採用したプラットフォームの4世代目にあたる。液浸ダブルパターニングをサポートするため、90Wの高出力を実現。60Wでの運転も可能で、システム導入時の対費用効果に優れる。また、チャンバや光学部品などの消耗品の長寿命化技術、ダウンタイムを最小にする独自技術を搭載している。