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JSR、四日市研究センターにArF液浸露光装置を導入

[issued: 2007.12.10]

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　JSRは、次世代半導体製造技術の開発に向け、四日市研究センターにArF液浸露光装置を導入すると発表した。同社では、研究センター敷地内のクリーンルーム(クラス10)に、最新鋭のArF液浸露光装置（NA1.30）、液浸対応自動塗布現像装置、自動欠陥検査装置などの先端リソグラフィ材料評価設備を導入、2008年4月から稼働する予定という。これにより、同社では32nm以降に対応の材料開発を加速させる。
　JSRは2007年初め、先端素材メーカーとして次世代半導体製造に対応した材料の供給・生産・製造を行うため、次世代半導体製造用先端リソグラフィ材料生産設備「MEライン」を稼動。今回、最先端の液浸露光検討設備を導入し、顧客である半導体メーカーと同等の環境で検討できる体制を整備することで、材料開発、品質向上を加速し、顧客サポートの強化を図るという。