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• 2008年上半期の半導体メーカーランキング、 ——IC Insightsが発表
• SEMATECH、EUVリソグラフィで22nmの解像度を実現
• 2008年Q3のDRAM市場が再び下降の兆し、回復は2009年後半か ——iSuppli社の報告から
• AMAT、UCバークレー校に500万ドル相当の装置等を寄贈
• フラッシュメモリーの技術競争力ランキング、1位はSanDisk、2位はルネサス ——アイ・ピー・ビーの調査結果から
• 2008年上期の半導体市場は「予想外」に堅調、 Gartnerが指摘
• アプリシアテクノロジーがAIXTRON米子会社と販売業務で提携、 ALD装置市場に参入
• STとInfineonら、次世代ウェーハレベルパッケージを共同開発
• 2008年Q2のSiウェーハ出荷量は前年同期比4.6％増 ——SEMIが発表

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Semiconductor International日本版
第20回テクニカルセミナー
『MEMS ルネッサンス』

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  第19回テクニカルセミナー
  「32nmを描くリソグラフィの選択肢
  〜Double Patterningか？直描か？」
  
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  第18回テクニカルセミナー
  「DRAM 1ドル時代の量産技術
  〜装置とプロセスをどう制御するのか？〜」
  
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  第17回テクニカルセミナー
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  〜SiP、TSVでイニシアチブを握れ〜」
  
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金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
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  －モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用－
  2008年 07月31日ー2007年07月31日
  虎ノ門パストラルホテル（東京）
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  2008年 07月30日ー2007年08月01日
  東京ビックサイト（東京）
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  2008年 07月30日ー2007年08月01日
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