News Center
SES、韓国Zeusと半導体製造装置の合弁会社を設立
[issued: 2008.02.05]
エス・イー・エス(SES)は、韓国Zeus社と半導体製造装置の製造を目的とした合弁企業を韓国内に設立することで契約を締結してと発表した。新会社の名称は未定で、2008年4月の設立を目指す。資本金は30億ウォン。主な事業としては、韓国内において、300mmを中心とした一部のハイエンド製品の製造をはじめ、メンテナンス業務、完成品持込後の組立・調整・立上作業を行う予定。
Zeusは1970年に韓国にて設立、現在では半導体・LCDの製造装置メーカーとして韓国の主要メーカーと取引関係を構築している。SESは、Zeusとの合弁会社を通じて協業し、韓国内で製造を行うことで韓国の半導体メーカーへのプレゼンスおよび販売力を強化する狙いがある。既納入物件が多い韓国ユーザーへのサービスの充実を図る目的もあり、新会社およびSES韓国支社と連携を取りながらユーザーへの包括的なアフターサービスの提供を図る。
韓国内において中長期的に製造比率を高めることは、同国国産品の調達比率の上昇という韓国政府の中長期的な政策目的とも合致しており、新会社では部材の調達から製造までメーカーとしての機能を拡充させていく計画。SESでは、Zeusとの協業の下、合弁会社との間での役割分担を明確化し、「適造適所」を通じた資源の配分を行い、SESグループとして企業価値の創造を図るとしている。
<新会社の概要>
会社名:未定
本社所在地:506 MOKNAE-DONG, DANWON-GU, ANSAN-SI,KYUNGGI-DO,425-100,KOREA
資本金:30億ウォン
出資比率:SES 60%、Zeus 40%
設立日:2008年4月(予定)
事業内容:半導体製造装置の製造、半導体製造装置の修理・保守・改造および各種パーツの販売業務、SES納入装置の保障期間対応サービス・メンテナンス業務
代表者:未定
従業員:初年度20名弱
<Zeusの概要>
設立:1970年3月1日(法人転換1988年12月16日)
設立者:Lee Dong Ak
CEO:Mun Jeong Hyeon
売上高:752億1300万ウォン
資本金:47億2000万ウォン
その他:2006年2月にKOSDAQ市場に上場
Zeusは1970年に韓国にて設立、現在では半導体・LCDの製造装置メーカーとして韓国の主要メーカーと取引関係を構築している。SESは、Zeusとの合弁会社を通じて協業し、韓国内で製造を行うことで韓国の半導体メーカーへのプレゼンスおよび販売力を強化する狙いがある。既納入物件が多い韓国ユーザーへのサービスの充実を図る目的もあり、新会社およびSES韓国支社と連携を取りながらユーザーへの包括的なアフターサービスの提供を図る。
韓国内において中長期的に製造比率を高めることは、同国国産品の調達比率の上昇という韓国政府の中長期的な政策目的とも合致しており、新会社では部材の調達から製造までメーカーとしての機能を拡充させていく計画。SESでは、Zeusとの協業の下、合弁会社との間での役割分担を明確化し、「適造適所」を通じた資源の配分を行い、SESグループとして企業価値の創造を図るとしている。
<新会社の概要>
会社名:未定
本社所在地:506 MOKNAE-DONG, DANWON-GU, ANSAN-SI,KYUNGGI-DO,425-100,KOREA
資本金:30億ウォン
出資比率:SES 60%、Zeus 40%
設立日:2008年4月(予定)
事業内容:半導体製造装置の製造、半導体製造装置の修理・保守・改造および各種パーツの販売業務、SES納入装置の保障期間対応サービス・メンテナンス業務
代表者:未定
従業員:初年度20名弱
<Zeusの概要>
設立:1970年3月1日(法人転換1988年12月16日)
設立者:Lee Dong Ak
CEO:Mun Jeong Hyeon
売上高:752億1300万ウォン
資本金:47億2000万ウォン
その他:2006年2月にKOSDAQ市場に上場
TOP 10 ページ
- SEMICON West開催、 やはり業界は太陽電池にシフトか、装置市場は2008年、前年比20%減に
- TEL、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置の高生産性モデル 「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」を発表
- オムロンが半導体子会社の吸収合併を完了、 MEMS/半導体の生産ラインを統合
- “Apple効果”不在も、拡大傾向が続くNAND型フラッシュ需要 ——Semicoが報告
- iPhone 3Gを“仮想分解”、原価は173ドルと試算、 --iSuppliが報告
- 「半導体業界は最悪の状況は脱した」 ——JP Morgan社が見解を示す
- 2010年までに太陽電池業界への投資額は半導体業界と同等レベルに ——iSuppli社が予測
- NECエレが45/40nmトランジスタの新技術を開発、 しきい値電圧の制御にHfを利用
- 韓国vs.日本という見方では読み誤るグローバル戦略
- SEMを使用した 新しいウェーハ検査レシピ 最適化方法
SI Japan テクニカルセミナー
最新のテクニカルセミナー情報
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
〜Double Patterningか?直描か?」
セミナー関連記事はこちらから
最近のテクニカルセミナー情報
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
〜装置とプロセスをどう制御するのか?〜」
関連記事はこちらから
第17回テクニカルセミナー
「SiPプロセス革命
〜SiP、TSVでイニシアチブを握れ〜」
関連記事はこちらから
EVENTS
-
Industrial Design セミナー
-モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用-
2008年 07月31日ー2007年07月31日
虎ノ門パストラルホテル(東京) -
第19回マイクロマシン/MEMS展
2008年 07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト(東京) -
PVJapan 2008
2008年 07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト(東京)









