蘭XTREME technologies社と独Philips Extreme UV社は、高集積回路の量産装置（HVM）に必要とされるEUV光源の出力目標を上まわる500Wを実証したと発表した。両社は原理実験により、DPP（Discharge Produced Plasma）方式のEUV光源で、これまで数kHz程度しか確認されていなかった繰り返し周波数を100kHzまでスケールアップでき、スキャナ入り口で500W以上の出力を達成したという。

　「光源の高出力化は、EUV開発のボトルネックのひとつで、量産化のためには180W以上の出力が必要とされていた。今回の実験では、DPP方式の光源のほうが、LPP（Laser Produced Plasma）方式よりも、はるかに大きい出力を比較的容易に実現できることを示している」と、Philips Extreme UVのゼネラルマネージャMarc Corthout氏はコメントしている。また、XTREME社長の吉岡正樹氏は、「今回の成果はDPPの拡張性を示す大きな進歩であり、世界初のEUV光源の実用化の可能性を示すもの」と述べている。

　Philips Extreme UVとXTREME technologiesは2007年11月、EUV光源を共同開発するため、業務提携を発表。両社は、現在世界にあるEUVを使用する露光機のα機すべてにEUV光源を供給しており、量産用EUV光源の実用化についての知識を多数有している。両社は、放電ランプのように、電極間でプラズマを燃焼させるDPP方式のEUV光源技術を採用しており、電極を延長し回転させるというアイデアが大きなブレークスルーへと結びついたという。また、同技術は、高出力時の過度な熱負荷を簡単に取り除き、電極の長寿命化も実現したとしている。

　なお、今回の実験結果は、米国で開催中のSPIE（International Society for Optical Engineering）のAdvanced Lithography 2008にて発表された。