米Applied Materials社（AMAT）は、先端プロセスに対応した各種フォトマスクの高速検査を可能にしたマスク検査装置「Applied Aera2」を発表した。Aera2は、マスク検査装置として初めて高度な空間像技術を採用し、マスク上のパターンがウェーハに転写された後の形状を直接視認することができるとしている。従来の検査装置では、ウェーハに転写されない非重要欠陥が数多く検出されてしまうという問題があったが、Aera2ではウェーハに影響を及ぼす欠陥のみを検出することができるという。AMATによると、同装置のスループットは他社装置の2倍以上に達するとしている。すでに複数台の予約注文が入っている模様。

　Aera2はArF（193nm）露光装置の光学系を模倣し、さらにウェーハ平面上に画像センサーを設置することで、露光装置の露光時と同じ光学条件下で、転写される形をそのまま映し出してマスク検査を行うことができる。

　Aera2の空間像検査技術の導入により、マスクの転写性が事前に確保できるようになり、今後はマスク生産工程とリソグラフィ工程の連携も強まるという。オプションの「IntenCD」では、空間画像データを活用して、マスク全体にわたる高精度かつ高密度の寸法均一性マップを生成することができる。これにより、マスク製造プロセスへのわずかな影響も判別でき、プロセスの微調整が可能となる。