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2008年第1四半期のSiウェーハ出荷は横ばい、SEMIが発表
[issued: 2008.05.07]
米SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)は2008年5月、2008年第1四半期の世界Siウェーハ出荷面積(面積換算での出荷量)が前期比で1%減、前年同期比で3%増の21億6300万平方インチになったと発表した。「Siウェーハの出荷面積は引き続き安定しており、横ばいで推移する結果になった」(SEMI)という。
同発表は、SEMI Silicon Manufacturers Group(SMG)の分析結果を基にしており、シリコンウェーハ出荷面積の数値はバージンテストウェーハ、鏡面ウェーハ、エピウェーハ、ノンポリッシュドウェーハが含まれている。
SEMI SMGの会長で、米MEMC Electronic Materials社で新製品マーケティング担当バイスプレジデントを務めるKazuyo Heinink氏は、「2008年第1四半期のSiの出荷は微減となったが、これは業界の控えめな景況感と一致している。その一方で、300mmウェーハの出荷は引き続き好調に推移している」とコメントしている。
同発表は、SEMI Silicon Manufacturers Group(SMG)の分析結果を基にしており、シリコンウェーハ出荷面積の数値はバージンテストウェーハ、鏡面ウェーハ、エピウェーハ、ノンポリッシュドウェーハが含まれている。
SEMI SMGの会長で、米MEMC Electronic Materials社で新製品マーケティング担当バイスプレジデントを務めるKazuyo Heinink氏は、「2008年第1四半期のSiの出荷は微減となったが、これは業界の控えめな景況感と一致している。その一方で、300mmウェーハの出荷は引き続き好調に推移している」とコメントしている。
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