米Novellus　Systems社は、最新型アッシング装置2機種を発表した。両製品とも同社の「GAMMA」プラットフォームを採用した製品で、フォトレジスト除去に関する異なるニーズに対応している。両装置ともにすでに出荷を開始しており、「G400」はアジアのメモリーメーカーへ、「GxT」は同じくアジアにある複数の大規模ファウンドリへ納品されたとしている。

　G400は、高いスループットを誇るアッシング装置で、DRAMやフラッシュメモリーなどの大型工場で使用される。バルクストリップと高ドーズ・インプラント・ストリップに対応。ウェーハの昇温を速めてアッシング速度を高めた結果、スループットはバルクストリップで1時間あたりウェーハ400枚以上、インプラント・ストリップで1時間あたりウェーハ300枚以上を達成した。

　GxTは、先端プロセスを採用したロジックをターゲットとした装置。特にSiロスを少なくすることとディフェクトを極めて低いレベルに抑えることを重点に開発された。条件の厳しいストリップアプリケーション（HDISやスーパーHDIS）、配線工程のクリーニングアプリケーションのいずれにも対応する。また、GxTは同社独自のマルチステーションシーケンシャル処理「MSSP」アーキテクチャを採用し、プロセスゾーンを複数持つ。これにより、複雑なレシピや薬品を柔軟に取り扱うことができるようになるとしている。ガスの分配を行う「SmartFlow」はステーション単位の制御が可能で、薬液使用を最適化して使用量を抑えることができる。同装置は、高温のバルクアプリケーション、低温のHDISや最先端のクリーニングプロセスにも一つのプラットフォームで同時に対応できる。