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TEL、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置の高生産性モデル 「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」を発表
[issued: 2008.07.08]
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東京エレクトロンは、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置「CLEAN TRACK LITHIUS」シリーズの最新機種「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」を発表した。
既存機種のスループットおよびOEE（Overall Equipment Efficiency）を高め、1日あたりの処理能力(Wafer Per Day)の最大化を実現した。さらには、ダブルパターニング技術などへのプロセス拡張性も備えているとしている。
既存機種のスループットおよびOEE（Overall Equipment Efficiency）を高め、1日あたりの処理能力(Wafer Per Day)の最大化を実現した。さらには、ダブルパターニング技術などへのプロセス拡張性も備えているとしている。
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