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NEWS
オムロン、60億円を投じて滋賀県野洲にMEMS開発などの新拠点を建設 (2008.05.15)
オムロンは2008年5月、滋賀県野洲市にあるオムロンセミコンダクターズ（以下、OSC）の敷地内に新棟を建設すると発表した。同社は、新棟をエレクトロニクスコンポーネンツビジネス（ECB）カンパニーにおけるマイクロエレクトロニクス事業の新拠点として、超微細加工技術を駆使したMEMS（Micro Ele...
Freescale、アリゾナ州テンペの工場を閉鎖へ (2008.05.15)
サブシステム売上上位10社をVLSI Researchが発表、 荏原製作所とギガフォトンが市場で躍進 (2008.05.15)
QUALCOMMとFoxlink、MEMSディスプレイ工場を台湾に建設 (2008.05.09)
AMDが製造部門の業務効率について言及、 製造サイクルタイムを23％改善したと明かす (2008.05.09)
2012年に450mmウェーハ導入で Intel、Samsung、TSMCが「合意」 (2008.05.08)
2007年のファウンドリ市場、専業ファウンドリが84％を占める ——IC Insights社の報告より (2008.05.07)
SAFC HITECHが米シボイガン工場を拡張 (2008.05.01)
住友ベークライト、４大特性を兼ね備えた 半導体製造工場向け制電プレートを発売 (2008.04.30)
半導体業界の不透明感、北米半導体製造装置のBBレシオが裏付ける結果に (2008.04.28)
ARTICLES
HDP-CVD プロセスの シール材料で寿命を延ばす (2008.05.01)
200/300mmウェーハ対応のCVD装置における最新の試験結果で、次世代パーフロロエラストマーのシール材料が、シール寿命と中断時間そして取り換え費用を改善することが分かった。
半導体メーカー設備投資動向： 2008年は先細りか (2008.03.01)
半導体工場の環境対策： 進む工場の“グリーン化” (2008.02.01)
Components (2008.02.01)
新たな基準がクリーンルームを改善する (2007.12.01)
EHSへの取り組みが各所で力強く動き始めた (2007.08.01)
サイクルタイムの改善が競争力の源泉 (2007.08.01)
さらに競争が厳しくなる300mm工場 (2007.06.01)
2006 Top Fab賞は、TIとChartered が獲得 (2007.02.01)
CATEGORIES
SI Japan テクニカルセミナー
SI Japan RESOURCE CENTER
アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
EVENTS
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フォト イメージング エキスポ2008（Photo Imaging Expo 2008）
2008年03月19日ー2007年03月22日
東京ビッグサイト -
LASER. World of Photonics China 2008
2008年03月18日ー2007年03月22日
Shanghai New International Expo Centre（中国上海） -
electronica & ProductronicaChina 2008
2008年03月18日ー2007年03月22日
Shanghai New International Expo Centre（中国上海）
