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Digital Editionのサンプル版を公開中！
2008年7月号から読者申込を開始いたしました。「Digital Edition」のサンプル版を公開しております。Digital Editionは、毎月発行される弊誌を丸ごとデジタルデータにし、パソコンなどから自由にご覧いただけるサービスです。
TOP STORY
太陽光発電：5年後にグリッド電力と競合へ
太陽光発電業界は（インセンティブを伴わずとも自立した経済として）、5年以内にグリッドパリティ（発電コストと電力売上が同等になること）を達成するだろう。この予想は、米カリフォルニア州ハーフムーンベイで開かれたSEMI主催のISS（Industry Strategy Symposium）2008で、半導体の資本設備と材料を分析している米Deutsche Bank Securities社のシニアアナリストStephen O'Rourke氏が発表した。
CURRENT ISSUE
TECHNICAL CHANNELS
- 東芝松下ディスプレイテクノロジー、
160億円を投じ有機ELディスプレイ製造ラインを新設
東芝松下ディスプレイテクノロジーは、石川県能美郡川北町の同社石川工場に約160億円の設備投資を行い... - 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？
450mmウェーハの開発が行われている米テキサス州AustinのSematech、Interope... - Intermolecularとエルピーダメモリ、次世代メモリー技術で共同開発を開始
米Intermolecular社は、エルピーダメモリとの間で同社共同開発プログラム（CDP: Co...
- 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？
450mmウェーハの開発が行われている米テキサス州AustinのSematech、Interope... - Intermolecularとエルピーダメモリ、次世代メモリー技術で共同開発を開始
米Intermolecular社は、エルピーダメモリとの間で同社共同開発プログラム（CDP: Co... - TEL、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置の高生産性モデル 「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」を発表
東京エレクトロンは、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置「CLEAN TRACK LITHI...
- TEL、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置の高生産性モデル 「CLEAN TRACK LITHIUS Pro V」を発表
東京エレクトロンは、300mmウェーハ対応レジスト塗布現像装置「CLEAN TRACK LITHI... - Cadence、Mentorに対して16億ドルの買収提案
米Cadence Design Systems社は、米Mentor Graphics社に対して買収... - KLA-Tencor、32nm対応のオーバレイ計測装置「Archer 200」を発売
米KLA-Tencor社は、新型オーバレイ計測システム「Archer 200」の提供を開始したと発...
- SEMを使用した
新しいウェーハ検査レシピ
最適化方法
暗視野検査装置とSEMレビューツールを効率よくリンクすることで十分な欠陥の捕捉率を達成することができる。米IBM社のイーストフィッシュキル工場においてSOIウェーハの検査レシピ最適化を行った。この新しい方法により迅速で効率がよく、簡素化されたデータフローが構築された。 - IBMが日立をアルバニーの開発エコシステムにいざなう
22nm技術世代は「Siデバイスでは決して予想しなかった課題」を持つ「驚くほどやりがいのあるノード... - Mentor、Ponteの買収によりDFMツールを強化
半導体の製造ばらつきによって生じる影響を軽減する方策の1つとして、米Mentor Graphics...
- アドバンテスト、Credenceドイツ法人を買収、車載半導体試験事業を強化
アドバンテストは、欧州の車載用半導体試験装置メーカー独Credence Systems GmbH社... - KLA-Tencor、32nm対応のオーバレイ計測装置「Archer 200」を発売
米KLA-Tencor社は、新型オーバレイ計測システム「Archer 200」の提供を開始したと発... - SEMを使用した
新しいウェーハ検査レシピ
最適化方法
暗視野検査装置とSEMレビューツールを効率よくリンクすることで十分な欠陥の捕捉率を達成することができる。米IBM社のイーストフィッシュキル工場においてSOIウェーハの検査レシピ最適化を行った。この新しい方法により迅速で効率がよく、簡素化されたデータフローが構築された。
- 6月号 New Products
● - AMAT、ウェーハエッジクリーニング装置「Inflexion」を発表
米Applied Materials社（AMAT）は、エッジ研磨装置「Applied Inflex... - AMAT、32nm対応マスク洗浄装置を発表
米Applied Materials社（AMAT）は、フォトマスク洗浄装置「Applied Tet...
- 2008年1Qの製造装置出荷額、前期比7％増の105億6000万ドル
——SEMIが報告
米SEMI（Semiconductor Equipment and Materials Inter... - 米業界団体が薄膜封止技術でフレキシブルな有機ELディスプレイ実現へ
米US Display Consortium（USDC）は、フレキシブルな有機EL（Electro... - Si貫通ビア：
量産準備は完了
IDM、ファウンドリ、パッケージングハウスなどはSi貫通ビアプロセスの開発を進めている。しかし、製造...
- 東芝松下ディスプレイテクノロジー、
160億円を投じ有機ELディスプレイ製造ラインを新設
東芝松下ディスプレイテクノロジーは、石川県能美郡川北町の同社石川工場に約160億円の設備投資を行い... - 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？
450mmウェーハの開発が行われている米テキサス州AustinのSematech、Interope... - 2010年までに太陽電池業界への投資額は半導体業界と同等レベルに
——iSuppli社が予測
米iSuppli社は、太陽エネルギー需要の高まりにより、2010年には太陽電池セル製造に対する投資...
- 東芝松下ディスプレイテクノロジー、
160億円を投じ有機ELディスプレイ製造ラインを新設
東芝松下ディスプレイテクノロジーは、石川県能美郡川北町の同社石川工場に約160億円の設備投資を行い... - 有機ELパネルの2008年上半期出荷数は710万枚、下半期には1000万枚以上との予測
——Displaybankが報告
韓国Displaybank社は、2008年第2四半期におけるアクティブマトリクス型の有機ELディス... - Intel、CIS系太陽電池のSulfurcellに3800万ドルを投資
米Intel社の投資部門である米Intel Capital社は、CIS（銅インジウム二セレン化物）...
- 東芝松下ディスプレイテクノロジー、
160億円を投じ有機ELディスプレイ製造ラインを新設
東芝松下ディスプレイテクノロジーは、石川県能美郡川北町の同社石川工場に約160億円の設備投資を行い... - 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？
450mmウェーハの開発が行われている米テキサス州AustinのSematech、Interope... - オムロンが半導体子会社の吸収合併を完了、
MEMS/半導体の生産ラインを統合
オムロンは2008年7月、滋賀県野洲市にある同社の100％子会社オムロンセミコンダクターズ（以下、...
- 東芝松下ディスプレイテクノロジー、
160億円を投じ有機ELディスプレイ製造ラインを新設
東芝松下ディスプレイテクノロジーは、石川県能美郡川北町の同社石川工場に約160億円の設備投資を行い... - 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？
450mmウェーハの開発が行われている米テキサス州AustinのSematech、Interope... - 「経済状況の悪化で、PC市場はむしろ好転」
——Gartnerが指摘
米Gartner社は、2008年第2四半期におけるPCの出荷台数が前年同期比で16％増になる見込み...
NEWS CENTER
- 東芝松下ディスプレイテクノロジー、 160億円を投じ有機ELディスプレイ製造ラインを新設 [2008.07.25]
- 450mm対応装置開発を大手半導体メーカーが支援する可能性！？ [2008.07.25]
- Intermolecularとエルピーダメモリ、次世代メモリー技術で共同開発を開始 [2008.07.24]
- 有機ELパネルの2008年上半期出荷数は710万枚、下半期には1000万枚以上との予測 ——Displaybankが報告 [2008.07.24]
- 「経済状況の悪化で、PC市場はむしろ好転」 ——Gartnerが指摘 [2008.07.24]
- 2008年の半導体業界の研究開発費は8％増へ、 IC Insightsが予測 [2008.07.22]
- Intel、CIS系太陽電池のSulfurcellに3800万ドルを投資 [2008.07.22]
- 2008年2Qの半導体売上高は前期比2％増、 Gartnerは今後の成長を楽観視 [2008.07.22]
- SEMICON West開催、 やはり業界は太陽電池にシフトか、装置市場は2008年、前年比20％減に [2008.07.18]
- 2008年1QのMPU市場、 前年同期比でAMDが市場シェアを拡大 [2008.07.08]
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最新のテクニカルセミナー情報
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第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
〜Double Patterningか？直描か？」
セミナー関連記事はこちらから
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第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
〜装置とプロセスをどう制御するのか？〜」
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第17回テクニカルセミナー
「SiPプロセス革命
〜SiP、TSVでイニシアチブを握れ〜」
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人材コーナー
- トヨタ自動車株式会社 パワーエレクトロニクス要素部品・内製半導体開発
- 松下電器産業株式会社（東証一部上場） デジタル・アナログ回路設計技術者
- 株式会社日立製作所（東証一部上場） システムエンジニア（鉄道・電力業界担当）
- 株式会社東芝 メモリ製品パッケージ開発エンジニア
- 三菱自動車工業株式会社（東証一部上場） 電子制御システム開発
- 株式会社本田技術研究所 二輪開発センター 電装品開発エンジニア
- 新電元工業株式会社（東証一部上場） 回路設計
- 株式会社ジャパンエナジー（JOMO） 設備管理技術者
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アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
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EVENTS
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Industrial Design セミナー
－モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用－
日時： 2008年 07月31日 - 2007年07月31日
会場： 虎ノ門パストラルホテル（東京） -
第19回マイクロマシン/MEMS展
日時： 2008年 07月30日 - 2007年08月01日
会場： 東京ビックサイト（東京） -
PVJapan 2008
日時： 2008年 07月30日 - 2007年08月01日
会場： 東京ビックサイト（東京）
