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2月号 New Products
[2007年02月号]Process
●ArF露光装置 XT:1450
連絡先:蘭ASML社 www.asml.com
●ArFエキシマレーザー光源 GT61A
連絡先:ギガフォトン www.gigaphoton.com
●レーザースクライブ/ブレーキング装置 DTX-200-80
連絡先:ヒューグルエレクトロニクス www.hugle.co.jp
●300mm対応ウェーハプローバ UF3000EX
連絡先:東京精密 www.accretech.jp
●300mm対応電荷消去システム RapidCure 320CE
連絡先:米Axcelis Technologies社 www.axcelis.com
連絡先:蘭ASML社 www.asml.com
●ArFエキシマレーザー光源 GT61A
連絡先:ギガフォトン www.gigaphoton.com
●レーザースクライブ/ブレーキング装置 DTX-200-80
連絡先:ヒューグルエレクトロニクス www.hugle.co.jp
●300mm対応ウェーハプローバ UF3000EX
連絡先:東京精密 www.accretech.jp
●300mm対応電荷消去システム RapidCure 320CE
連絡先:米Axcelis Technologies社 www.axcelis.com
Metrology and Inspection
●原子間力顕微鏡システム Agilent 5400 AFM/SPM
連絡先:アジレント・テクノロジー www.home.agilent.com
●SOI向けテストソリューション T2000
連絡先:アドバンテスト www.advantest.co.jp
●光学式オーバレイ計測システム Archer 100
連絡先:米KLA-Tencor社 www.kla-tencor.co.jp
連絡先:アジレント・テクノロジー www.home.agilent.com
●SOI向けテストソリューション T2000
連絡先:アドバンテスト www.advantest.co.jp
●光学式オーバレイ計測システム Archer 100
連絡先:米KLA-Tencor社 www.kla-tencor.co.jp
Components
●オートティーチングシステム WaferSense ATS
連絡先:米CyberOptics Semiconductor社 www.cyberopticssemi.com
●薬液濃度モニター CR-288
連絡先:日本スウェージロック www.swagelok.co.jp
連絡先:米CyberOptics Semiconductor社 www.cyberopticssemi.com
●薬液濃度モニター CR-288
連絡先:日本スウェージロック www.swagelok.co.jp
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2008年11月27日ー2007年11月29日
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計測展2008 OSAKA
2008年11月26日ー2007年11月28日
大阪国際会議場(グランキューブ大阪)










