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Cover Story
ダブルパターニングで液浸リソグラフィの延命を図る
高開口数(NA)の液浸リソグラフィが思ったより期待できない現状で、半導体業界は、ダブルパターニングがウェーハ・ベースの光リソグラフィを延命する方策になるとして、この話題で騒然としている。
Features
ArFリソグラフィでhp45nmを実現する
Mark Slezak
Ramakrishnan Ayothi
Zhi Liu
米JSR Micro社
www.jsrmicro.com
JSR
www.jsr.co.jp
三次元統合を可能にするディープSiエッチング
Dave Thomas
米Aviza Technology社
www.avizatechnology.com
Industry Watch
半導体産業は大きな方向修正を迫られているのか
Moshe Handelsman
米Advanced Forecasting社
社長
www.adv-forecast.com
FPD Technology Watch
2007年のFPD市場を展望する-FPD産業の動向は、2006年同様フラットTVに注目-
李 根秀
アイサプライ・ジャパン
主席アナリスト
www.isuppli.co.jp
SI Japan テクニカルセミナー
最新のテクニカルセミナー情報
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
〜Double Patterningか？直描か？」
セミナー関連記事はこちらから
最近のテクニカルセミナー情報
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
〜装置とプロセスをどう制御するのか？〜」
関連記事はこちらから
第17回テクニカルセミナー
「SiPプロセス革命
〜SiP、TSVでイニシアチブを握れ〜」
関連記事はこちらから
SI Japan RESOURCE CENTER
アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
EVENTS
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Industrial Design セミナー
－モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用－
2008年07月31日ー2007年07月31日
虎ノ門パストラルホテル（東京） -
第19回マイクロマシン/MEMS展
2008年07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト（東京） -
PVJapan 2008
2008年07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト（東京）
