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Cover Story
DFMコストの決め手は計算機リソグラフィ
ハーフピッチ（hp）45nmおよび32nm世代の先端プロセスの製造を実現するには、新たな戦略が必要だ。その中でも計算機リソグラフィ技術の導入は設計フローに新しいソリューションを提供することになるだろう。
Mems Innovator
第18回 マイクロマシン/MEMS展
－MEMS展MEMS、ナノテク、超精密・微細加工、バイオに関する国際展示会－
2007年7月25日（水）から7月27日（金）までの3日間、東京ビッグサイト（東京国際展示場）の西3・西4ホールにて、マイクロマシンセンター主催の「第18回マイクロマシン/MEMS展－MEMS、ナノテク、超精密・微細加工、バイオに関する国際展示会－」が開催される。MEMS関連の展示会としてさらなる...
当たり前の技術としてMEMSが使われるようになった時に産業は成熟する
京都大学 大学院工学研究科
マイクロエンジニアリング専攻
教授 田畑 修 氏
マイクロエンジニアリング専攻
教授 田畑 修 氏
北九州学術研究都市が国の採択を受けた 大型研究開発プロジェクトの紹介
財団法人 北九州産業学術推進機構
半導体技術センター 応用技術部
担当部長 吉村 克信 氏
半導体技術センター 応用技術部
担当部長 吉村 克信 氏
MEMSは次の産業そのものである
産業技術総合研究所 先進製造プロセス研究部門
主幹研究員兼ネットワークMEMS研究グループ長
前田 龍太郎 氏
主幹研究員兼ネットワークMEMS研究グループ長
前田 龍太郎 氏
SI Japan テクニカルセミナー
最新のテクニカルセミナー情報
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
〜Double Patterningか？直描か？」
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最近のテクニカルセミナー情報
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
〜装置とプロセスをどう制御するのか？〜」
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第17回テクニカルセミナー
「SiPプロセス革命
〜SiP、TSVでイニシアチブを握れ〜」
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SI Japan RESOURCE CENTER
アドバンスドエナジージャパン株式会社
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
EVENTS
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Industrial Design セミナー
－モノづくりにおける意匠設計とそのデータ活用－
2008年07月31日ー2007年07月31日
虎ノ門パストラルホテル（東京） -
第19回マイクロマシン/MEMS展
2008年07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト（東京） -
PVJapan 2008
2008年07月30日ー2007年08月01日
東京ビックサイト（東京）
