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9月号 New Products
[2007年09月号]
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Process
●エッチング装置 Applied Centura Carina Etch
連絡先：米Applied Materials社 www.appliedmaterials.com
●酸化膜スペーサ装置 Applied Producer ACE SACVD
連絡先：米Applied Materials社 www.appliedmaterials.com
●KrF露光装置 TWINSCAN XT:1000
連絡先：蘭ASML社 www.asml.com
●研究開発専用プラットフォーム HPC
連絡先：米Intermolecular社 www.intermolecular.com
●PVD装置 INOVA NExT
連絡先：米Novellus Systems社 www.novellus.com
連絡先：米Applied Materials社 www.appliedmaterials.com
●酸化膜スペーサ装置 Applied Producer ACE SACVD
連絡先：米Applied Materials社 www.appliedmaterials.com
●KrF露光装置 TWINSCAN XT:1000
連絡先：蘭ASML社 www.asml.com
●研究開発専用プラットフォーム HPC
連絡先：米Intermolecular社 www.intermolecular.com
●PVD装置 INOVA NExT
連絡先：米Novellus Systems社 www.novellus.com
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?Double Patterningか？直描か？」
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?装置とプロセスをどう制御するのか？?」
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金属材料のマグネトロンスパッタリングにおけるアーク抑制
JPN-ArcSputmetal-270-01.pdf
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第1回アナログセミナー「アナログICを選ぶ、使う」
2008年12月03日ー2007年12月03日
東京コンファレンスセンター・品川（東京・品川） -
航空宇宙産業技術展2008（AITEC 2008）
2008年11月27日ー2007年11月29日
名古屋市国際展示場（ポートメッセ名古屋） -
計測展2008 OSAKA
2008年11月26日ー2007年11月28日
大阪国際会議場（グランキューブ大阪）
