MAGAZINE ARTICLES
このページをホームページに登録New Products
Components
[2007年10月号]●ビーム整形・強度均一化オプティクス
深紫外から近赤外の各種波長に対応し、また、さまざまな出力形状を実現した製品をラインナップ。さらに、ビーム整形形状・波長・動作距離・出力ビーム形状などの各種カスタマイズも可能となっている。ガウシアン-トップハットコンバータは、出力ビーム形状が正方形(60〜180μm)で出力均一度は±10%以内(典型値5%)、ビーム透過率は97%以上となっている。
連絡先:日本レーザー
www.japanlaser.jp
●ArFレーザー光源
XLR 600iは、90WのArF(193nm)露光装置用のレーザー光源。ArFレーザー光源では、初めて出力90Wに到達し、液浸およびダブルパターニングリソグラフィに適用することで32nmプロセス以降に対応する。同製品は、Cymerが有するデュアルチャンバ技術を継承し、光学系性能を安定させることで繰り返し周波数を6kHzへと向上させた。これにより、運営コストを削減しながら、出力を90Wに増加させたことでスループットも向上する。また、今回新たにウェーハレベルのプロセス制御が可能になるABS(Advanced Bandwidth Stabilization)技術を搭載した。消耗ガスの充填サイクルを10倍以上延長した、GLX(Gas Lifetime Extension)技術も開発、稼働時間を延長し製品の総生産量の増加にも寄与する。
連絡先:米Cymer社
www.cymer.com
連絡先:米Cymer社
www.cymer.com
●振動除去装置
連絡先:米Technical Manufacturing Corporation(TMC)社
www.techmfg.com
SI Japan テクニカルセミナー
最近のテクニカルセミナー情報
-
Semiconductor International日本版
第21回テクニカルセミナー
『太陽電池を輝かせる製造技術~究極のエコ技術の現在と未来~』
-
Semiconductor International日本版
第20回テクニカルセミナー
『MEMS ルネッサンス』
-
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
?Double Patterningか?直描か?」
セミナー関連記事はこちらから -
Semiconductor International日本版
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
?装置とプロセスをどう制御するのか??」
関連記事はこちらから
EVENTS
-
第1回アナログセミナー「アナログICを選ぶ、使う」
2008年12月03日ー2007年12月03日
東京コンファレンスセンター・品川(東京・品川) -
航空宇宙産業技術展2008(AITEC 2008)
2008年11月27日ー2007年11月29日
名古屋市国際展示場(ポートメッセ名古屋) -
計測展2008 OSAKA
2008年11月26日ー2007年11月28日
大阪国際会議場(グランキューブ大阪)










