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Cover Story
先端マスク技術で リソグラフィを延命
長年リソグラフィ業界では、“いじめられっ子”のような存在であったマスク技術が、課題が山積みのリソ技術の助け船として重要性を増している。改良型の光近接補正（OPC:Optical Proximity Correction）や超解像技術（RET：Resolution Enhancement Technique）、有望なダブルパターニング技術の登場によって、マスクは光露光を存続させる救世主に十分なり得える存在となった。
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