MAGAZINE ARTICLES
このページをホームページに登録
アプライド マテリアルズは、人々のライフスタイル向上のため
nanomanufacturing technologyTMを提供します
nanomanufacturing technologyTMを提供します
2006年9月には、液晶パネルや半導体分野で培われた各種製造装置、技術、プロセスイノベーションの提供を通じてエネルギー変換効率や歩留まりを高め、太陽光発電コストの低減へ貢献するため、太陽光発電(PV)装置市場に参入しました。
アプライド マテリアルズ ジャパン株式会社は1979年10月に設立。大阪支店ほか14のサービスセンターを置き、日本の顧客へのサポート体制を整えています。
SEMICON Japan 2007
“BEYOND THE CHAMBER”をテーマに世界で最も幅広いファブリソースのポートフォリオをご紹介します。High k/Metal Gate、Double Patterningのソリューションならびにファブソリューション、計測・検査技術、太陽電池装置の展示を行います。
Applied Centura® Carina™ Etch
業界初の高温High-kエッチング装置です。プロセスウィンドウが広く、プロファイル、リセス、残留物の制御を同時に最適化できるため、トランジスタの45nm以降へのスケーリングにも対応できます。この量産装置では、ハードウェアとプロセスの生産性が向上しているほか、High-k機能とコストオブオーナーシップ(CoO)は市販のどの装置よりも優れています。その高性能は、High-kエッチングと高温処理技術に長年取り組んできたアプライド マテリアルズならではのものです。
Applied Producer® ACE™ SACVD®
ACE技術の性能は、メイダンテクノロジーセンターですでに実証されています。ここでは高度なSADP技術を用いて最先端のTANOSフラッシュメモリー構造を試作しました。この成果は、お客様のダブルパターニング技術による次世代デバイス開発期間短縮とコスト節減のお役に立てたいと考えています。
ブース番号:3D-1001
SI Japan テクニカルセミナー
最近のテクニカルセミナー情報
-
Semiconductor International日本版
第21回テクニカルセミナー
『太陽電池を輝かせる製造技術~究極のエコ技術の現在と未来~』
-
Semiconductor International日本版
第20回テクニカルセミナー
『MEMS ルネッサンス』
-
Semiconductor International日本版
第19回テクニカルセミナー
「32nmを描くリソグラフィの選択肢
?Double Patterningか?直描か?」
セミナー関連記事はこちらから -
Semiconductor International日本版
第18回テクニカルセミナー
「DRAM 1ドル時代の量産技術
?装置とプロセスをどう制御するのか??」
関連記事はこちらから
EVENTS
-
Brion Computational Lithography Seminar 2008
2008年11月10日ー2007年11月10日
My Plaza Hall(東京・丸の内) -
17th International Symposium on Semiconductor Manufacturing(ISSM 2008)
2008年10月27日ー2008年10月29日
ハイアットリージェンシー東京 -
第25回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム
2008年10月22日ー2008年10月24日
沖縄コンベンションセンター(沖縄)










