カールツァイスSMTは、光、電子、およびイオン光学技術に関する世界トップクラスのノウハウを活用して、製造業およびR&Dの各顧客に幅広い構成の製品、サービス、およびアプリケーションソリューションを提供しています。カールツァイスSMTの市場トップクラスのシステム/ソリューションは半導体デバイス、材料研究、およびライフサイエンスなどで互いに関連するナノ技術のアプリケーションの分野で使用されています。

　SMTの半導体測定システム部門（Semiconductor Metrology Systems Division （SMS））は、半導体業界向けの測定/製造装置の世界トップクラスのサプライヤです。
　光と電子光学に関するコアノウハウは、フォトマスクの検査・測定や修正からウェハ上の回路のエディティングまで展開する製品構成の基礎となっています。AIMS™、MeRiT®、Phame®、およびSMARTの製品ファミリーはフォトマスクの欠陥検査および修正の包括的ソリューションを提供することを目的に開発されました。

　AIMS™製品ファミリーは15年近くにわたって世界中のあらゆるマスクショップにおいてマスク認定の事実上の業界標準になっています。独自のエアリアルイメージング測定システム（Aerial Imaging Measurement System （AIMS））はマスクの実欠陥の転写性の解析を実現し、露光プロセスに与える影響を解析します。

　高解像度位相差測定システムであるPhame®によって、あらゆる種類の位相シフトマスクのダイ内位相差測定が可能になります。Phameはダイ内の実パターンの測定に加え、従来のリファレンスパターンの位相差測定にも対応しています。これらの両システムによってプロセス制御とマスク設計の最適化が可能になり、ウェハへの転写結果が最適化されます。

　相補的製品ラインのMeRiT®は超高精度のフォトマスクの修正を可能にします。このシステムは電子ビーム技術を用い、1つのプラットフォームでPSMおよびバイナリマスクの黒欠陥および白欠陥双方の修正に対応します。電子ビーム技術を利用するマスク修正はイオンビームなど従来の修正技術の短所を克服し、将来のノードに対する唯一の実用的なソリューションです。

　フォトマスク・レビューシステムのSMARTは、あらゆる種類のフォトマスクの比類のな
いレベルの高解像イメージングおよび解析を提供します。低加速電圧による高解像イメージングが可能な電界放射型走査顕微鏡を用いたSMARTはフォトマスクの欠陥のダメージレスにての高度な解析を可能にします。

　カールツァイスは各顧客、さらには業界コンソーシアムとの開発協力を通じて、急速に発展・成長するフォトマスク技術が求める要求に対応してまいります。カールツァイスの卓越した技術、エンジニアリング、およびサポート能力に加え、業界への長期にわたるコミットメントによって、カールツァイスは今日および将来に求められる開発および製造装置の信頼できるパートナーになっています。