すべての露光と計測には、独Advanced Mask Technology Center（AMTC）から入手したテストマスクを使用した。このマスク積層膜は580Å Cr層を被膜した680Å MoSi層から成る。

　同マスクは、空間像測定システムAIMS 45-193iで広範囲に測定された。同システムのNA＝1.4に匹敵し、最新世代のHyper-NA液浸スキャナのエミュレーションを可能にする。その上、偏光と、複数の軸外照明モード（スキャナ照明モードに相当）が使用可能だ。空間像測定では、Hyper-NA結像に関連したベクトル効果を得るため、NA=1.35とNA=0.78/0.98双極子X照明、開口角度35°、スキャナモード^3）で直線偏光（Y偏光）が使用された。

　スキャナモードでは、スカラモード（またはAIMSモード）での実画像測定値と、Carl Zeissの専用アルゴリズムを組み合わせて、レジスト膜中の空間像を作り出し、マスク効果をエミュレートする。さらに、ユーザーがレジストの屈折率を入力しなければならない。本研究の屈折率は、露光で使用されるフォトレジストの屈折率と同等の1.7に設定された。

　Twinscan XT：1900Giは最大NA=1.35である。照明条件は、NA=1.35とNA=0.807/0.967ダイポールX照明、開口角度35°、Y偏光を使用して、40nmハーフピッチ用に最適化された。露光は、ベアSiウェーハ上に米Brewer Science社の93nmBARC膜 「ARC93SR」 、東京応化工業の95nm レジスト膜「TARFPi6001」、およびJSRの90nm トップコート膜「TCX041」を塗布して行われた。すべてのウェーハはCD-SEM（日立ハイテクノロジーズ「CG-4000」）で測定された。

　スキャナ照明光源の強度プロファイルにしっかり合わせるため、AIMS測定と露光では意図的に異なるシグマを設定した。AIMS光源はトップハット照明とみなすことができ、一方、スキャナ光源はより多くのGaussian強度分布を持つ。さらに、総エネルギーの10/90％がその範囲に収まる、スキャナ上のシグマインナー/シグマアウターが内側半径/外側半径と定義され、トップハットのシグマ設定は、囲まれたエネルギーの端（0/100％）で定義される。

　図3は、評価されたフラッシュメモリーのワード線マスクパターン形状とそれらの設計CD値を示す。つまり、中央スペース（SG-SG）、SG、ワード線（WL1、WL2、WL7）、そして、SGとWL1間のスペース(SP0)、WL1とWL2間のスペース（SP1）。7つの形状すべては、中央スペースの両端にある（右側のみ図示）レジスト膜で、マスクレベルではAIMSを、ウェーハレベルではCD-SEMを使って測定された。WL7は高密パターンと見なされ、ゲート層をターゲット膜に転写する際、リファレンスとして使用される。薄いマスク近似（キルヒホッフ近似）とランプパラメータレジストモデルを使用して、基本的なOPC（近接効果補正）処理がなされた。SG、WL1、およびWL2の形状中心位置エラーは、フォーカス時のCD-SEMとAIMSの測定値から特定された。中央スペースの中心はリファレンスとして選ばれた。ポジ側への移動は、ワード線が中心から離れることを示す（すなわち、中央スペース右側の形状はポジX方向へ、中央スペース左側の形状はネガX方向へ）。逆に、ネガ側への移動は、ワード線が中央スペースに向かって動くことを示す。

　図4は、CD-SEM測定と同じモジュール内において、CD-SEM像の上でAIMS測定された、フラッシュメモリーのワード線マスクパターンの空間像外観を示す。本図は、AIMS 45-193iが、レジスト膜中の最終像に合った、複雑な2次元構造の光学的効果を正確に得られることを示している。