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NEWS

サブシステム売上上位10社をVLSI Researchが発表、 荏原製作所とギガフォトンが市場で躍進 (2008.05.15)

米VLSI Research社は、2007年半導体/FPD/データストレージ関連のサブシステムメーカー売上高上位10社を発表した。2006年と比べて、上位6社に変更はなかった。

　同社マネージングディレクターJohn West氏は、「2007年は太陽光発電市場がサブシステムメーカ...


AMAT、ウェーハエッジクリーニング装置「Inflexion」を発表 (2008.05.09)

AMAT、ArFリソ対応マスク検査装置を発表 (2008.04.30)

半導体業界の不透明感、北米半導体製造装置のBBレシオが裏付ける結果に (2008.04.28)

エルピーダとQimonda、4F2セルのDRAM開発で提携 (2008.04.28)

Spansion、イタリアにMirrorBit ORNAND2の開発拠点を設立 (2008.04.28)

Appleが半導体市場に参入か P.A. Semiを2億7800万ドルで買収 (2008.04.28)

AMAT、32nm対応マスク洗浄装置を発表 (2008.04.17)

KLA-Tencor、転写される欠陥の識別を可能にしたマスク検査装置を発表 (2008.04.17)

ASML、早大の学生への奨学金プログラムを開始 (2008.03.31)

TSMC、2008年2Qにも40nmプロセスのウェーハ出荷へ (2008.03.24)

JSR、ダブルパターニング用のフリージング材を開発 (2008.03.14)

SOKUDOのコーデベ、Spansionの32nm液浸に採用 (2008.03.03)

AMAT Stork氏、リソの課題克服には計測技術の進展が必須と指摘、 SPIE併設AMAT開催のフォーラムで次世代リソの課題があらわに (2008.02.29)

Axcelis、住友重機械の買収提案を拒否 (2008.02.28)

ARTICLES

EUV研究がArFレジストの問題解決に一役買う (2008.05.01)

　EUVフォトレジストの要件に関する最新研究は、ますます微細化が進むArFリソグラフィ技術で遭遇する問題のいくつかを解決する一助となっている。

　米ニューヨーク州立大学アルバニー校のナノスケール科学工学カレッジ（CNSE）の助教授Robert Brainard氏は、EUVと...


組み込みOPCが、DUVレーザーでの 65/45nmマスク描画を可能にする (2008.04.01)

新たなリソ技術や トランジスタ構造の変化が 32nmへと導く (2008.03.01)

デザインを制限しダブルパターニングを 可能にする (2008.02.01)

ニコンとSynopsysが最先端OPCを実現 (2008.01.01)

株式会社ニコン (2007.12.01)

www.nikon.co.jp/pec

EUV以外の選択肢 (2007.12.01)

NGLの変わり行く実態を調査する (2007.12.01)

先端マスク技術で リソグラフィを延命 (2007.11.01)

フォトマスクの欠陥と 洗浄における新境地 (2007.11.01)

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