『洗浄技術進化論、45nm量産から32/22nm開発へ
~High-k/メタルゲート、ダメージフリーへのアプローチ~』
【終了しました】
- 日時:
- 2008年2月22日(金)
- 場所:
-
〒100-0005 東京都千代田区丸の内1-7-12 サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス(地図)
JR東京駅新幹線専用改札口(日本橋口)から徒歩1分、
八重洲北口改札口から2分
『洗浄技術進化論、45nm量産から32/22nm開発へ
~High-k/メタルゲート、ダメージフリーへのアプローチ~』
MEMSパッケージング技術
~黎明期から次なるステージへのテイクオフ~