ブライオン テクノロジーズ株式会社　主催セミナー
Brion Computational Lithography Seminar

Brion Computational Lithography *)セミナー開催に当たって
　微細化は、限界の議論があるものの、着実に進んでいる。現在、次世代リソグラフィの遅れから、露光装置光学系の開口数（NA）の増大とK1ファクターの低減による193nmリソグラフィのさらなる革新が強く求められている。
　しかし、解像度の限界への挑戦を進める中で、ドーズ/フォーカス尤度が大幅に狭まり、RET/OPCの不完全、マスクの不完全などによる系統欠陥数の増大が深刻な問題となっている。これを解決するためにはRET/OPC設計の段階と、マスク製造の段階で系統欠陥を検証・解決し、下流のウェーハ工程に問題を持ち込ませないことが鍵となる。

　また、パターン精度には極めて厳しい値が要求される。65nm世代では、誤差配分上で大きな要因はRET/OPCとマスクにある。微細化の進展に伴い、RET/OPCの誤差とマスクの誤差はさらに深刻化することが予測され、これらの精度の向上が緊急の課題だ。微細化に伴うこれら問題の解決策として、分野を横断した討論・解決が求められている。最近、リソグラフィのシミュレーション速度が飛躍的に改善されつつあり、計算機リソグラフィ（Computational Lithography）が各要素技術を横断的に結合し、問題解決に有効なことが分かった。

　本セミナーではデバイスメーカーの同技術の評価状況が報告され、また、計算機リソグラフィ、マスク、露光装置、検査測定などの各要素技術の発展に向け各要素技術と計算機リソグラフィとのインテグレーションについて討論する。さらに、計算機リソグラフィはデバイス設計の効率化から上流設計工程との結合も必要になっており、この方面からも活発な討論を行いたい。　本セミナーにより微細化およびリソグラフィ技術の新しい潮流が垣間見えるであろう。是非、多くの方の参加を希望する。

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　滝川　忠宏

*) Computational Lithography(計算機リソグラフィ);　広い意味でのリソグラフィに関わるデータ処理技術。　最近、処理速度、精度ともに革新的に改良が進み、65nm以下の微細加工には必須な技術と考えられている。　

以下の講演プログラムは本日現在までに確定しているプログラムです。
追加講演の予定があります。追加講演が決定次第、プログラムを更新いたします。

日時	2006年10月12日（木）
開催時間	フォーラム：10：00〜17：45 　　懇親会：17：45〜19：30
場所	〒108−0075　東京都港区港南1-9-36 アレア品川5F 東京コンファレンスセンター・品川　（地図） JR品川駅港南口（東口）より徒歩2分
参加料	無料（※定員になり次第締め切り致します）
主　催	ブライオンテクノロジーズ株式会社
メディア スポンサー	Semiconductor International 日本版
本日までに決定している講演 プログラム	■Opening Talk Brion Technologies Inc. & ブライオンテクノロジーズ株式会社 　取締役会長(日本) 　Coroporate Executive, 　Technology & Business Development (USA) 　滝川 忠宏 　＜10:00〜10:10＞ ■【Applied Image Computing for Computational Lithography】 　Brion Technologies Inc. 　President 　Jun Ye 氏 　＜10:10〜10:50＞ ■【リソグラフィフレンドリ設計技術と製造技術のあり方】 　株式会社東芝　セミコンダクター社 　プロセス技術推進センター　半導体プロセス開発二部 　リソグラフィ技術開発第一担当 　グループ長 　井上 壮一 氏 　＜10:50〜11:30＞ ■【RET/OPC検証とOPCの動向】 　NECエレクトロニクス株式会社 　基盤技術開発事業本部　設計技術事業部 　DFM技術開発グループ チームマネージャー 　柳原 俊明 氏 　＜11:30〜12:10＞ 《昼食》＜12:10〜13:20＞ ■【A New Generation Computational Lithography Technology and Products】 　Brion Technologies Inc. 　Products Marketing 　Vice President 　Hua-yu Liu 氏 　＜13:20〜14:00＞ ■【露光装置と計算機 リソグラフィ】 　株式会社ニコン 　精機カンパニー　開発本部 　主幹研究員 　松山 知行 氏 　＜14:00〜14:40＞ ■【マスクと計算機リソグラフィ】 　大日本印刷株式会社 　電子デバイス事業部　電子デバイス研究所 　DFMテクノロジー　グループ　リーダー 　鳴河　照悟 氏 　＜14:40〜15:20＞ 《コーヒーブレイク》＜15:20〜15:40＞ ■【コンピューテショナルリソグラフィにおける検査計測技術】 　株式会社日立ハイテクノロジーズ 　事業戦略本部　製品戦略部 　 主任技師 　根本　和典 氏 　＜15:40〜16:20＞ ■【Design for manufacturability (DFM) and lithography awareness】 　MAGMA Design Automation Inc. 　Physical Verification and DFM Business Unit 　Director, RET&DFM 　Dr. Alfred Wong 　＜16:20〜17:00＞ ■【DFM,the Design Perspective 】 　Cadence Design Systems Inc. 　Senior Architect 　Vassilios Gerousis 氏 　＜17:00〜17:40＞ ■【Closing Remark】 　滝川　忠宏 　＜17:40〜17:45＞ 《カクテルパーティ》＜17:45〜19:00＞ ※講演プラグラムは変更される可能性があります。

以上の講演プログラムは本日現在までに確定しているプログラムです。
追加講演の予定があります。追加講演が決定次第、プログラムを更新いたします。

※ お問い合わせ先 E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017