Semiconductor International日本版 第8回テクニカルセミナー
実用化迫る！液浸リソグラフィとNGLの全容を解明する

　Semiconductor International日本版(SIJ)では、実用化そして量産化に向けてカウントダウンを始めた液浸リソグラフィ技術の最新動向を検証するとともにEUVリソグラフィやEB描画技術などの次世代リソグラフィ技術(NGL)の可能性を探ります。
液浸リソグラフィの導入では量産当初はトップコートの使用でプロセスフローが変わるとともに、新材料が適用されます。一方でトップコートなしの液浸プロセスを構築した半導体メーカーもあると聞きます。65nm以降のリソグラフィ技術は、プロセスも材料も変わるのが必至のようです。遠いようで近い、次世代プロセスの量産を睨んだ開発が確実に進んでいます。開発の進展と同時に、新たなリソグラフィ起因の欠陥の発生も懸念されます。量産対応の液浸露光装置が出揃うのも間近と見られ、関連材料、周辺インフラの対応も急務です。
　液浸技術の急速な開発の一方で、EUVの開発障壁は高く、高まるマスクコストそしてリソグラフィコストが大きな懸念材料となっています。ここにきて電子ビーム直描技術が再び注目され始めており、これが実現できれば先端リソ技術だけでなく、多品種少量生産ラインそのものが革新的に変貌を遂げる可能性があります。

以下の講演プログラムは本日現在までに確定しているプログラムです。
追加講演の予定があります。追加講演が決定次第、プログラムを更新いたします。

日時	2006年11月16日（木）
開催時間	セミナー：9:30〜18:35（予定）
場所	東京都　千代田区　九段北1-8-10　住友不動産九段ビル3・4F ベルサール九段（地図） 「九段下」駅「5番出口」徒歩5分（半蔵門線・新宿線）
参加料	39,800円（税込み・資料・昼食含む）
主　催	Semiconductor International日本版(SIJ)
本日までに決定している講演プログラム	■「開会の挨拶」 　Semiconductor International 日本版 編集長　高橋潤 　＜9:30〜9:35＞ ■【液浸リソグラフィのソリューション】 　株式会社ニコン 　精機カンパニー　開発本部　第三開発部　第一開発課 　マネジャー 　今井　基勝 氏 　＜9:35〜10:25＞ ■【Advanced lithography for the (sub-)32nm node】 　ベルギーIMEC社 　Silicon Process and Device Technology Division 　Director Strategic Program Partnerships 　Lode Lauwers, Phd 　＜10:25〜11:20＞ ■【サイマー社における露光装置用光源開発状況】 　サイマー・ジャパン株式会社 　テクニカル・マーケティング　ディレクター 　大賀　敏浩 氏 　＜11:20〜12:00＞ ◆ランチ◇ 　＜12:00〜13:00＞ ■【What comes after 193nm immersion lithography?】 　International SEMATECH 　Director, Lithography 　Michael Lercel, PhD 　＜13:00〜13:55＞ ■【アドバンテストのEB直描機の現状と今後】 　株式会社アドバンテスト 　ナノテクノロジー第1事業部 　事業部長 　坂本　樹一 氏 　＜13:55〜14:45＞ ■【45nm世代以降のリソグラフィ技術課題】 　ケーエルエー・テンコール株式会社 　Parametric Solutions Group 　Technical Director 　加藤　敦彦 氏 　＜14:45〜15:25＞ ◇コーヒーブレイク◆ 　＜15:25〜15:40＞ ■【Lithography for 45 nm Mass Production】 　蘭ASML社 　Senior Product Manager 　Hans Bakker 氏 　＜15:40〜16:30＞ ■【高屈折率液体を用いた次世代ArF液浸リソグラフィ】 　JSR株式会社 　電子材料事業部　実装材料部 　部長　電子材料技術統括 　稗田　克彦 氏 　＜16:30〜17:10＞ ◇コーヒーブレイク◆ 　＜17:10〜17:25＞ ■【EUVリソグラフィー技術とプロセス評価】 　リソテック ジャパン株式会社 　取締役執行役員　プロセス開発グループ長 　関口　淳 氏 　＜17:25〜18:00＞ ■【計算機リソグラフィの最先端】 　Brion Technologies Inc. & ブライオンテクノロジーズ株式会社 　Corporate Executive,Technology & Business Development & 　取締役会長 　滝川　忠宏 氏 　 ＜18:00〜18:35＞
協賛企業

以上の講演プログラムは本日現在までに確定しているプログラムです。
追加講演の予定があります。追加講演が決定次第、プログラムを更新いたします。

※ お問い合わせ先 E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017