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 Seminar schedule

ブライオン テクノロジーズ株式会社　主催セミナー
Brion Computational Lithography Seminar 2007

Brion Computational Lithography 2007 セミナー開催に当たって

　テクノロジーノード32−22nmに向けて、193nmリソグラフィの革新が着実に進んでいます。　　光リソグラフィが解像限界に近づくにつれ、いわゆるホットスポットによる歩留まり低下の問題とともにＣＤ精度の劣化が深刻化します。　最近、計算機リソグラフィの計算速度の改善が革命的に進み、チップ全面は勿論のこと、プロセスウィンドウを考慮して多数の条件で精度の高いリソグラフィシミュレーションが可能となりました。　その結果、65-45nmにおける上記問題は大幅に改善が進んでおります。　今後、計算機リソグラフィと検査・測長技術をさらに発展させ、また、マスク、スキャナー、レジスト、エッチング，等の個別プロセス技術とそれらモデルの改善を図ることが、光リソグラフィによる極限までの微細化の鍵になります。　　なお、デバイスの上流設計においても、リソグラフィを考慮した設計が行われるようになっています。　　実際の製造段階で使われるリソグラフィモデルを用いてパターンの変形を予測し、変形したパターンをベースに配置配線やタイミング設計を行う方法で、これにより設計精度が格段に向上します。　　
　光リソグラフィ個別技術と検査・測長技術の、計算機リソグラフィによる統合化を進めるにあたっては、分野を横断した討論・協調が有効です。　日本には微細化を牽引している複数の半導体デバイスメーカーが存在し、さらにスキャナー、マスク、測長、レジストといった強い個別技術があり、このような討論を行うには最適な場所です。　　是非、多くの方が討論に参加することを希望いたします。


　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ブライオンテクノロジーズ（株）　会長
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　滝川　忠宏

*) Computational Lithography (計算機リソグラフィ);　広い意味でのリソグラフィに関わるデータ処理技術。　最近、処理速度、精度ともに革新的に改良が進み、65nm以下の微細加工には必須な技術になってきた。　


終了しました

本セミナーは、ブライオンテクノロジーズ株式会社主催のプライベートセミナーです。
ブライオンテクノロジーズ社が業務上で競合にあたる、支障をきたすと判断した場合はご参加をお断りする場合がございます。あらかじめご了承くださいますようお願い申し上げます。


日時 2007年10月22日(月)
開催時間 セミナー：9:50〜17:20
懇親会：17:30〜19:30
場所 〒108-0075　東京都港区港南2-16-4　品川グランドセントラルタワー 3F
　　　 THE GRAND HALL（地図）
　　　 JR 品川駅、港南口よりスカイウェイにて直結(徒歩3分)
京浜急行 品川駅よりスカイウェイにて直結(徒歩6分)
参加料 無料（※定員になり次第締め切り致します）
主　催 ブライオンテクノロジーズ株式会社
メディア
スポンサー		 Semiconductor International 日本版
本日までに決定している講演
プログラム

【開会の挨拶】
<9:50-10:00>
Brion Technologies Inc. & ブライオンテクノロジーズ株式会社
取締役会長(日本)
Coroporate Executive, Technology & Business Development (USA)
滝川 忠宏


■　【計算機リソグラフィとブライオンテクノロジーズのロードマップ】
<10:00-10:35>
Brion Technologies Inc.
President
Jun Ye


■　【計算機リソグラフィへの期待と周辺技術の役割】
<10:35-11:05>
株式会社日立製作所　中央研究所
先端技術研究部
主管研究員　工学博士
岡崎　信次 氏


■　【リソグラフィ設計】
<11:05-11:35>
株式会社東芝　セミコンダクター社
プロセス技術推進センター　半導体プロセス開発二部
リソグラフィ技術開発第一担当
グループ長
井上 壮一 氏


■　【ブライオンテクノロジーズ製品のご紹介】
<11:35-12:10>
Brion Technologies Inc.
Mr. Neal Callan


◇昼食◆
<12:10-13:10>


■　【計算機リソグラフィ】
<13:10-13:45>
Crolles2
Mr. Yorick Trouiller


■　【ファンドリビジネスと計算機リソグラフィ】
<13:45-14:20>
TSMC
Mr. Hua-Tai Lin


■　【露光装置と計算機リソグラフィ】
<14:20-14:55>
ASML
Mr. Alek Chen


■　【Computational Lithographyのための計測技術】
<14:55-15:25>
株式会社日立ハイテクノロジーズ
半導体製造装置営業統括本部　評価装置営業本部
アプリケーション技術部　計測グループ
栄井　英雄 氏


◇コーヒーブレイク◆
<15:25-15:45>


■　【マスクと計算機リソグラフィ】
<15:45-16:15>
大日本印刷株式会社
電子デバイス事業部　電子デバイス研究所
第一研究室
鳴河　照悟 氏


■　【From model-based verification to DFM】
<16:15-16:45>
Magma Design Automation, Inc
Director, RET and DFM
Mr. Alfred Wong


■　【システムLSIにおける製造性考慮設計】
<16:45-17:20>
株式会社半導体理工学研究センター
開発第1部　執行役員　開発第1部長
西口 信行 氏


■　【閉会の辞】
Brion Technologies Inc. & ブライオンテクノロジーズ株式会社
取締役会長(日本)
Coroporate Executive, Technology & Business Development (USA)
滝川 忠宏


◇懇親会◆
<17:30-19:30>


※ お問い合わせ先 E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017