Semiconductor International日本版　第21回テクニカルセミナー
『太陽電池を輝かせる製造技術〜究極のエコ技術の現在と未来〜』

　太陽電池の生産に使用されたSiの量は2004年頃に、半導体に使われる量に匹敵するようになったといわれる。一時は多結晶Siの供給不足もあり、成長は鈍化したが、薄膜Si太陽電池技術の進展、さらに産業の枠を越えた世界的な環境ブーム、ガソリン価格の高騰などの追い風を受けて、太陽電池市場は拡大を止めない。
　今後、持続的な拡大が期待できる新市場だけに、ビジネスチャンスを伺う企業も多く、未知の産業からの新規参入も多い。しかし、長年培ったSi形成技術や薄膜形成技術を応用できる半導体業界やFPD業界には技術面でのメリットは大きく、技術貢献度は高い。CIGSなどの非Si系の太陽電池技術の開発も急ピッチで進行しており、製造技術にはさらなるブレイクスルーも期待される。
　今回、Semiconductor International日本版では、半導体やFPDなどの先端技術を結集し、究極のエコ技術として進化発展する新しい太陽電池製造技術の現在と未来を検証する。

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※受講費のお支払いについて※
受講費は、原則として開催日前日（10月1日）までにお振込み下さい。
下記口座までご入金をお願いいたします。（振込み手数料はご負担くださいますようお願いいたします）
　□受講費：39,800円（税込、資料・昼食代含む）
　□振込先：三井住友銀行赤坂支店 当座 201489
　□名義：リード・ビジネス・インフォメーション株式会社
　□カナ表記：リード．ビジネス．インフォメーション（カ
　※振込み時には、半角カタカナ表記になります。
※受講票について※
　受講票は、お申込み受付後1週間以内に、ご記入いただいたe-mailアドレス宛にお送りいたします。
セミナー当日は、お送りした受講票をプリントアウトの上ご持参くださいますよう、お願いいたします。
セミナー事務局
E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017

以下の講演プログラムは本日現在までに確定しているプログラムです。
追加講演の予定があります。追加講演が決定次第、プログラムを更新いたします。

日時 2008年10月2日（木）
開催時間 10:00〜15:40
場所 〒100-0005　東京都千代田区丸の内1-7-12　サピアタワー6F
東京ステーションコンファレンス　（地図）
JR東京駅新幹線専用改札口（日本橋口）から徒歩1分、八重洲北口改札口から2分
参加料 39,800円（税込み・資料&昼食含む）
主　催 Semiconductor International日本版(SIJ)
本日までに
予定している
講演プログラム

■【開会の挨拶】
Semiconductor International　日本版編集長　高橋　潤
<9:50-10:00>

■【国際競争力が低下するニッポン太陽電池産業
　　　　　　〜国境無き競争にいかにして生き残るか〜】
ジェイスター株式会社
代表取締役社長
豊崎　禎久　氏
<10:00-11:00>

■【太陽電池の研究開発動向】
豊田工業大学
大学院工学研究科
主担当教授
山口　真史　氏
<11:00-12:30>

◇◆昼食◆◇　<12:30-13:30>

■【太陽電池製造におけるレーザ技術応用】
コヒレント・ジャパン株式会社
産業用レーザセールスG
MDマネージャ
五味　豊　氏
<13:30-14:20>

◆◇コーヒーブレイク◇◆　<14:20-14:40>

■【Testing and Certification of Photovoltaics】
テュフ ラインランド ジャパン株式会社
産業サービス部　エネルギー・環境課
太陽光発電
アシスタント エンジニア
Luke Johnson　氏
太陽電池校正サービス・太陽光発電研究
課長
守田　堅吾　氏
<14:40-15:40>


※ お問い合わせ先 E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017