Brion Computational Lithography Seminar 2008

Brion Computational Lithography Seminar 2008の開催に当たって

　光リソグラフィの短波長化と開口数（NA）の増大化が限界にきたことにともない、ダブルパターニング（DPT）や光源・マスクの最適化、さらにはセルパターンの簡単化などにより、HP32nmから22nmまでArF（193nm）リソグラフィで対応するパターニング技術の革新が進んでいます。 　これらの技術は実効的なK1ファクターを低下させるものと言えますが、ここには計算機によるデータ補正/処理技術、すなわち計算機リソグラフィ（Computational Lithography *）が大きな役割を果たします。
　昨年まではBrion Computational Lithography SeminarではRET/OPCやその検証技術を中心として、その前後の工程の設計や、マスク、ウェーハプロセス、測定技術との相互作用、すなわち計算機リソグラフィの微細化への貢献を中心に討論しました。
　一方、露光、プロセス、測定技術を融合した、現実の世界のウェーハリソグラフィも著しく発展しています。
　計算機リソグラフィとウェーハリソグラフィの統合により、露光装置の光源形状、露光量、σ、収差などを操作し、プロセスウィンドウを最大化し、露光装置間の差をマッチングしたり、マスクのシグニチャを補正する補正技術が可能となってきています。
　本年は計算機リソグラフィの更なる発展に加えて、計算機リソグラフィとウェーハリソグラフィの統合化(Holistic Lithography)にまで視野を広げ、討論していきたいと思います。Holistic Lithographyにより光リソグラフィの極限までの微細化が可能になると思われます。
　本年は座長として日立製作所中央研究所の岡崎信次氏をお迎えし、内外のデバイスメーカー、露光装置メーカー、マスクメーカー、マスク用装置メーカー、測定装置メーカーなどから講師をお呼びし、リソグラフィの統合化による微細化の取り組みについて講演していただきます。
　ぜひ、多くの方々に参加していただくことを願うとともに、Brion/ASMLが何を目指しているか、多くの方々に知っていただければ幸いです。

ブライオンテクノロジーズ株式会社　　　　　　会長　滝川　忠宏



＊計算機リソグラフィ(Computational Lithography)：　広い意味でのリソグラフィに関わるデータ処理技術。　最近、処理速度、精度ともに革新的に改良が進み、65nm以下の微細加工には鍵となる技術。

受付は終了しました
※受講票について※
　受講票は、お申込み受付後1週間以内に、ご記入いただいたe-mailアドレス宛にお送りいたします。
セミナー当日は、お送りした受講票をプリントアウトの上ご持参くださいますよう、お願いいたします。

セミナー事務局
E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017
本セミナーは、ブライオンテクノロジーズ株式会社主催のプライベートセミナーです。

ブライオンテクノロジーズ社が業務上で競合にあたる、支障をきたすと判断した場合はご参加をお断りする場合がございます。あらかじめご了承くださいますようお願い申し上げます。

以下の講演プログラムは本日現在までに確定しているプログラムです。
講演に変更があった場合は随時、プログラムを更新いたします。

日時 2008年11月10日(月)
開催時間 セミナー：9:45〜17:30
レセプション：17:30〜19:30
場所 〒100-0005　東京都千代田区丸の内2-1-1 明治安田生命ビル
明治安田生命ビル 4F　MY PLAZA　ホール　（地図）
参加料 無料（※定員になり次第締め切り致します）
主　催
ブライオンテクノロジーズ株式会社 / ASML
メディア
スポンサー		 Semiconductor International 日本版
本日までに
予定している
講演プログラム

■ 【Greeting】
ブライオンテクノロジーズ株式会社
代表取締役社長
菊池　憲明
<9:45-9:50>

■ 【Opening Talk】
ブライオンテクノロジーズ株式会社
取締役会長
滝川　忠宏
<9:50-10:00>

Chairperson：岡崎　信次　氏
（株式会社日立製作所　中央研究所　先端技術研究部　主管研究員）

1. 【Computational Lithography in the Fab】
Brion Technologies
President
Jun Ye
<10:00-10:35>

2. 【Food for Thought（仮題）】
Intel
Senior Intel Fellow, Director of Advanced Lithography,
Logic Technology Development
Technology and Manufacturing Group
Yan Borodovsky 氏
<10:35-11:10>

3. 【Ultimate Optical Proximity Control for Stable High Volume Production】
株式会社　東芝　セミコンダクター社
プロセス技術推進センター
半導体プロセス開発第二部
リソグラフィ技術開発第一担当
グループ長
井上　壮一　氏
<11:10-11:40>

4. 【Brion Product Overview】
Brion Technologies
VP Product Management & Marketing
Neal Callan
<11:40-12:25>

◇◆昼食◆◇　<12:25-13:30>

5. 【Effective use of Computing Power for Lithography】
Samsung Electronics
Principle Engineer,
Memory Division, Process Development Team,
Patterning Group
Suk Joo Lee氏
<13:30-14:05>

6. 【Clean Metrology and Sub-nanometer Tool Matching】
TSMC
Academician / Manager,
Advanced Metrology Center,
Exploratory Nanopatterning Technology Dept.,
Nano Patterning Technology Division
Chih-Ming Ke 氏
<14:05-14:40>

7. 【The Importance of CD-SEM in Computational Lithography】
株式会社日立ハイテクノロジーズ
半導体製造装置営業統括本部　評価装置営業本部
営業技術部　計測グループ
栄井　英雄 氏
<14:40-15:10>

◇◆コーヒーブレイク◆◇　<15:10-15:40>

8. 【Wafer and Computational Lithography, Layout and Variability tool】
ASML
Executive Vice President， Marketing and Technology
Martin A. Van den Brink　氏
<15:40-16:25>

9. 【Maskmaker's　Key-role for Computational Lithography】
大日本印刷株式会社
電子デバイス事業部
フェロー
林　直也　氏
<16:25-16:55>

10. 【マスク欠陥検査の課題と欠陥検査装置NPIの新機能】
株式会社ニューフレアテクノロジー
検査装置統括部長
臼田　欣也　氏
<16:55-16:25>

■ 【Closing Remarks】
ブライオンテクノロジーズ株式会社
滝川　忠宏
<17:25-17:30>

◇◆レセプションパーティー◆◇　


※ お問い合わせ先 E-Mail:sijseminar@reedbusiness.jp
電話番号：03-5775-6017